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배기가스가 이동되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 연결되고 1차 희석공기가 상기 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부를 가지고, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 1차 희석가스가 형성되도록 하는 제1희석유닛; 상기 제1희석유닛에서 배출되는 상기 1차 희석가스가 유입되어 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 제1입자분리유닛; 그리고 상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 토출되는 이젝터부와, 상기 이젝터부에서 토출되는 상기 제1타겟입자에 혼합되도록 2차 희석공기의 이동을 안내하는 제3유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 제2희석유닛을 포함하고,상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 제1가속노즐을 가지고,상기 제1수집부는 상기 제1가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 제1수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제1항에 있어서, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제1항에 있어서, 상기 제1입자분리유닛은 상기 제1수집부에 부압을 제공하는 제1펌프를 더 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제1항에 있어서, 상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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배기가스가 이동되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 연결되고 1차 희석공기가 상기 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부를 가지고, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 1차 희석가스가 형성되도록 하는 제1희석유닛; 상기 제1희석유닛에서 배출되는 상기 1차 희석가스가 유입되어 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 제1입자분리유닛; 상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 토출되는 이젝터부와, 상기 이젝터부에서 토출되는 상기 제1타겟입자에 혼합되도록 2차 희석공기의 이동을 안내하는 제3유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 제2희석유닛; 그리고상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 분사되는 제2노즐부와, 상기 제2노즐부에서 분사되는 상기 제1타겟입자에서 분리되는 제2타겟입자를 상기 이젝터부로 안내하는 제2챔버부와, 상기 제2타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제2수집부를 가지는 제2입자분리유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제6항에 있어서,상기 제2노즐부는 하나 이상의 제2가속노즐을 가지고, 상기 제2수집부는 상기 제2가속노즐에 대향되도록 마련되는 제2수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제7항에 있어서, 상기 제2입자분리유닛은 상기 제2수집부에 부압을 제공하는 제2펌프를 더 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제1유로부를 통해 공급되는 배기가스가 토출되는 이젝터부와, 1차 희석공기가 상기 이젝터부에서 토출되는 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부와, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 형성되는 1차 희석가스가 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 희석분리유닛; 그리고 상기 희석분리유닛에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 이동되는 제3유로부와, 상기 제3유로부와 연결되고 2차 희석공기가 상기 제1타겟입자와 혼합되도록 안내하는 제4유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 희석유닛을 포함하는 배기가스 희석분리장치
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제9항에 있어서, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제9항에 있어서,상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 가속노즐을 가지고, 상기 제1수집부는 상기 가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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제9항에 있어서, 상기 희석분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 희석분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치
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