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스핀 궤도 토크 자성 메모리

  • 기술번호 : KST2019008295
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 스핀 궤도 토크 자성 메모리는, 실리콘 기판 상에 적어도 하나로 위치되어 내부에서 스핀 궤도 상호작용(spin orbit interaction)을 야기시키는 로우 선택 라인(row selection line); 로우 라인 패턴 상에 적어도 하나로 위치되는 제1 자성 패턴; 제1 자성 패턴 상에 위치되는 제2 자성 패턴; 제2 자성 패턴 상에 위치되는 터널 베리어; 및 터널 베리어 상에 위치되는 제3 자성 패턴을 포함하고, 상기 제1 자성 패턴은 코발트 막(Co film)으로 이루어지고, 제1 자성 패턴과 제2 자성 패턴은 총 두께 5㎚로 이루어져 자유층(free layer)을 형성하고, 제3 자성 패턴은 자화 방향을 고정시킨 고정층(pinned layer)으로 형성된다.
Int. CL H01L 43/08 (2006.01.01) H01L 43/02 (2006.01.01) H01L 43/10 (2006.01.01)
CPC H01L 43/08(2013.01) H01L 43/08(2013.01) H01L 43/08(2013.01)
출원번호/일자 1020170162573 (2017.11.30)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-2142091-0000 (2020.07.31)
공개번호/일자 10-2019-0063641 (2019.06.10) 문서열기
공고번호/일자 (20200806) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.11.30)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이억재 서울특별시 성북구
2 민병철 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이준성 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길 **, ***호 준성특허법률사무소 (대치동, 대치빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2017-1195681-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.02.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.04.05 수리 (Accepted) 9-1-2018-0013560-28
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0207515-51
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.05.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0510367-73
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2019-0510368-18
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0671528-50
8 등록결정서
Decision to grant
2020.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0518796-93
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번호 청구항
1 1
실리콘 기판 상에 적어도 하나로 위치되어 내부에서 스핀 궤도 상호작용(spin orbit interaction)을 야기시키는 로우 선택 라인(row selection line);상기 로우 선택 라인 상에 적어도 하나로 위치되는 제1 자성 패턴;상기 제1 자성 패턴 상에 직접적으로 접촉하여 위치되는 제2 자성 패턴;상기 제2 자성 패턴 상에 위치되는 터널 베리어; 및상기 터널 베리어 상에 위치되는 제3 자성 패턴을 포함하고,상기 제1 자성 패턴은 코발트 막(Co film)으로 이루어지고,상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴은 총 두께 5㎚로 이루어져 자유층(free layer)을 형성하고,상기 제3 자성 패턴은 자화 방향을 고정시킨 고정층(pinned layer)으로 형성되고,상기 제2 자성 패턴은 퍼멀로이(Py)를 포함하는 스핀 궤도 토크 자성 메모리(Spin Obit Torque(SOT) MRAM)
2 2
제1 항에 있어서,상기 로우 선택 라인은, 백금(Pt), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 하프늄(Hf), 레늄(Re), 이리듐(Ir), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 티타늄(Ti), 백금-망간(PtMn), 철-망간(FeMn), 이리듐-망간(IrMn), 비스무스 셀레나이드(Bi2Se3), 비스무스 텔루라이드(Bi2Te3), 몰리브덴 황(MoS2), 텅스텐 텔루라이드(WTe2), 인듐 아세나이드(InAs), 갈륨 아세나이드(GaAs), 이차원 전이금속 디찰코게나이드계 화합물(2dimensional TMDs(transition metal dichalcogenides), 3족-5족 반도체(III-V semiconductors) 및 슈퍼컨덕터(superconductors) 중 적어도 하나를 포함하는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
3 3
제1 항에 있어서,상기 제1 자성 패턴의 두께는 상기 제2 자성 패턴에서 두께의 증가 또는 감소에 따라 동일한 크기로 감소 또는 증가되는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
4 4
삭제
5 5
제1 항에 있어서,상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴은 상기 총 두께를 유지하면서 서로에 대해 동일 두께로 증가 또는 감소, 그리고 감소 또는 증가되는 때 자기 감쇄 상수(α)의 증감 경향과 스핀홀 각도(θSH)의 증감 경향을 서로 반대로 가지는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
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제1 항에 있어서,상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴은 스핀 토크 강자성 공명(spin torque ferromagnetic resonance) 측정시 상기 제1 자성 패턴에서 상기 코발트의 두께 0
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삭제
8 8
제1 항에 있어서,상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴은, 상기 로우 선택 라인과 상기 제1 자성 패턴의 계면에서 스핀 투명도(spin transparancy)를 극대화시키고,상기 제2 자성 패턴과 상기 터널 베리어의 계면에서 투 마그논 일렉트론 스캐터링(two magnon electron scattering)을 최소화시키는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
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제1 항에 있어서,상기 로우 선택 라인은, 로우 라인(row line) 전원(VR)을 통해 면내(in-plane) 제1 전류의 흐름 동안 상기 스핀 궤도 상호작용에 의해 상기 제1 전류로부터 스핀 전류를 생성시켜 상기 스핀 전류를 상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴에 순차적으로 전달시키며, 상기 스핀 전류의 각운동량을 상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴의 총 자기 모우멘트(total magnetic moment)인 하부 자화(lower magnitization)에 전달하여 상기 제3 자성 패턴의 상부 자화에 대해 상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴의 상기 하부 자화를 평행(parallel) 또는 반평행(antiparallel)으로 방향 전환시켜 데이터 쓰기(write) 동작을 수행하는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
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제9 항에 있어서,상기 로우 선택 라인과 교차하면서 컬럼 라인(column line) 전원(VC)과 상기 제3 자성 패턴에 전기적으로 접속되는 컬럼 선택 라인을 더 포함하고,상기 컬럼 선택 라인은, 상기 컬럼 라인 전원(VC)을 통해 상기 제3 자성 패턴, 상기 터널 베리어, 상기 제2 자성 패턴, 상기 제1 자성 패턴과 상기 로우 선택 라인을 따라 제2 전류를 흘리고, 상기 제3 자성 패턴의 상부 자화에 대해 상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴의 상기 하부 자화를 평행 방향으로 가지는 때 데이터 로우(data low)로 자기저항 신호를 측정하거나, 상기 제3 자성 패턴의 상부 자화에 대해 상기 제1 자성 패턴과 상기 제2 자성 패턴의 상기 하부 자화를 반평행 방향으로 가지는 때 데이터 하이(data high)로 자기저항의 신호를 측정하도록 데이터 읽기(read) 동작을 수행하는 스핀 궤도 토크 자성 메모리
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20190165254 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2019165254 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 창의형융합연구사업 스핀/양자현상을 이용한 초저전력 및 초고속 스핀 메모리 기술 개발