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제1도전형 반도체 기판에 제2도전형 불순물층이 도핑된 다수의 셀을 준비하는 단계;상기 다수의 셀을 슁글드 어레이 접합 방식으로 접합하는 단계;일측 단부의 셀에 전면 전극을 형성하고, 타측 단부의 셀에 후면 전극을 형성하는 단계; 및상기 전면 전극을 제외한 나머지 셀의 전면에 투명 절연층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전면 전극에 물분해 촉매층을 형성하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1도전형은 P 타입이고, 상기 제2도전형은 N 타입으로서 상기 전면 전극에 의해 물이 분해되어 수소가 발생되도록 함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1도전형은 N 타입이고, 상기 제2도전형은 P 타입으로서 상기 전면 전극에 의해 물이 분해되어 산소가 발생되도록 함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전면 전극은 TiO2, Ga2O3, In2O3, ZnO, Nb2O5, WO3, Sn0, SnO2 및 MgO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 2 항에 있어서,상기 물분해 촉매층은 Pt, Ir, Pd 및 Ta으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 투명 절연층은 에폭시 및 PDMS(Polydimethylsiloxane)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함함을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 7 항에 기재된 방법 중 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 슁글드 어레이 접합 방식을 이용한 광전기화학적 물분해용 고전압 광전극
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