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입력 광원을 제공받아 제1 광원을 형성하고, 상기 제1 광원이 피조사물에 제공되도록 광경로를 제어하는 광학 유닛; 상기 제1 광원을 제공받은 상기 피조사물에서 반사된 제2 광원을 제공받아 제3 광원과 제4 광원으로 편광시키는 위상지연판(phase retardation plate); 및 상기 제3 광원과 제4 광원을 제공받아 반사 또는 투과시켜 제1 광신호 및 제2 광신호로 분리하는 편광빔 스플리터(polarization beam splitter)을 포함하되, 상기 위상지연판 및 편광빔 스플리터를 통해 상기 입력광원 하나로 상기 피조사물 표면의 이미징 정보 및 상기 피조사물 표면의 화학적 분광정보를 동시에 검출하는 것을 특징으로 하고,상기 위상지연판은 상기 제3 광원과 제4 광원의 성분의 비율을 제어하고, 상기 편광빔 스플리터에서 상기 제1 광신호 및 제2 광신호의 세기를 제어하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 제1 광신호를 수신하여 상기 피조사물 표면의 이미징 정보를 제공하는 영상장치, 및 상기 제2 광신호를 수신하여 상기 피조사물 표면의 화학적 분광정보를 제공하는 분광장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 광학 유닛은 다이크로익 밀러, 다이크로익 필터 및 이들을 혼합한 유닛 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 입력광원은 250nm 내지 400nm 범위의 자외선(UV)인 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 광학 유닛은 상기 입력광원의 광경로 상에 배치되며, 상기 입력광원을 제공받아 상기 제1 광원을 형성하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서, 상기 제1 광원이 상기 피조사물에 형성되는 이물에 반사되어 형성된 제2 광원일 경우는 상기 제1 광원과 상이한 파장으로 반사되는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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7
제 1항에 있어서, 상기 제3 광원과 제4 광원은 선편광, 원편광 및 타원편광 중 선택된 어느 하나로 형성되고, 상기 제3 광원과 제4 광원은 서로 상이한 편광 상태로 형성되는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 1항에 있어서,상기 피조사물과 상기 광학 유닛 사이에는 대물렌즈 유닛(objective lens)이 배치되고, 상기 대물렌즈 유닛은 상기 피조사물의 표면의 확대상을 형성하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 9항에 있어서,상기 대물렌즈 유닛과 위상지연판 사이에는 튜브 렌즈가 배치되는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 10항에 있어서,상기 튜브 렌즈 상에는 연장 렌즈가 배치되고, 상기 튜브 렌즈와 상기 연장 렌즈 사이에는 상기 연장 렌즈와 튜브 렌즈를 연결하는 렌즈 어뎁터가 배치되는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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제 11항에 있어서,상기 튜브 렌즈와 상기 연장 렌즈 사이에는 상기 위상지연판이 배치되고, 상기 위상지연판 상에 배치된 상기 연장 렌즈는 상기 위상지연판에서 편광된 상기 제3 광원과 제4 광원이 외부로 누설되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템
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입력광원을 광학 유닛에 제공하여 제1 광원을 형성하고 상기 제1 광원을 피조사물에 제공하는 단계;상기 제1 광원을 상기 피조사물에서 반사시켜 제2 광원을 형성하고, 상기 제2 광원을 위상지연판에 제공하여 서로 다른 편광 파장을 갖는 제3 광원 및 제4 광원을 형성하는 단계;상기 제3 광원 및 제4 광원을 편광빔 스플리터에 제공하여 제1 광신호 및 제2 광신호로 분리하는 단계;상기 제1 광신호를 영상장치에 제공하고 상기 제2 광신호를 분광장치에 각각 제공하는 단계;상기 영상장치에서 상기 피조사물 표면의 이미징 정보를 획득하는 단계; 및상기 분광장치에 상기 피조사물 표면의 화학적 분광정보를 획득하는 단계를 포함하되, 상기 피조사물 표면의 이미징 정보 및 상기 피조사물 표면의 화학적 분광정보를 동시에 검출하는 것을 특징으로 하고,상기 위상지연판은 상기 제3 광원과 제4 광원의 성분의 비율을 제어하고,상기 편광빔 스플리터에서 상기 제1 광신호 및 제2 광신호의 세기를 제어하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템의 검사방법
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삭제
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제 13항에 있어서,상기 피조사물과 상기 광학 유닛 사이에는 대물렌즈 유닛(objective lens)이 배치되고, 상기 대물렌즈 유닛과 위상지연판 사이에는 튜브 렌즈가 배치되며, 상기 튜브 렌즈 상에는 연장 렌즈가 배치되고, 상기 튜브 렌즈와 상기 연장 렌즈 사이에는 상기 위상지연판이 배치되고, 상기 위상지연판 상에 배치된 상기 연장 렌즈는 상기 위상지연판에서 편광된 상기 제3 광원과 제4 광원이 외부로 누설되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 이물 검사 시스템의 검사방법
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