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오산화바나듐(V2O5), 안정제 및 극성 용매를 혼합한 혼합물을 비드 밀링하여 비정질의 오산화바나듐을 수득하는 단계; 및상기 비드 밀링된 비정질의 오산화바나듐을 1시간 이내의 시간으로 열처리하여 이산화바나듐을 수득하는 단계를 포함하는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 비드 밀링 이후,상기 혼합물에 무극성 용매를 추가하여 원심분리하는 단계; 및상기 혼합물에서 비드 밀링된 오산화바나듐을 회수하는 단계를 더 포함하는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,오산화바나듐(V2O5), 안정제 및 극성 용매의 중량비가 40:1:400 내지 60:1:800인 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 비드 밀링은,200 ㎛ 이하의 직경을 가지는 지르코니아 비드를 이용하여 2000 rpm 내지 4000 rpm의 속도로 이루어지는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 혼합물 및 비드의 중량비가 3 : 1 내지 4 : 1 인 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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삭제
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제1항에 있어서,상기 비드 밀링된 비정질의 오산화바나듐은 10 nm 내지 40 nm 의 직경을 가지는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 안정제는, 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 폴리비닐 알코올(PVA), 폴리메티크릴레이트, 폴리우레탄 및 폴리에스테르로이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 극성 용매는,메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 및 아세톤으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나인 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는,400 ℃ 내지 600 ℃ 의 온도 및 질소 분위기에서 1 분 내지 10 분의 시간 동안 이루어지는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는,대기 분위기에서 110 torr 내지 150 torr로 감압하여 30 분 내지 1 시간 동안 이루어지는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 이산화바나듐은 30 nm 내지 60 nm 의 직경을 가지는 이산화바나듐 나노입자의 제조 방법
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