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단일단의 가스분산판을 갖는 배가스 처리장치

  • 기술번호 : KST2019008586
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요약 본 발명은 화력발전소에서 배출되는 배가스(Flue gas) 중의 황산화물을 제거하기 위한 장치에 관한 것으로, 흡수액 슬러리 상승관 하부에 산화용 공기를 주입함으로써 액 상승관을 통해 상승하는 기-액 혼합물의 밀도를 낮추고, 이 밀도 차이가 분산판 상하부의 흡수액을 순환시키는 추진력으로 작용함으로써 순환량을 극대화시켜 낮은 운전 pH와 낮은 흡수탑 ΔP(차압)하에서도 높은 SO2 제거 효율을 얻을 수 있는 효과가 있다.배연탈황, 습식 석회석-석고법, 화력발전, 가스분사, 흡수탑
Int. CL B01D 53/50 (2006.01.01) B01D 53/14 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020050122516 (2005.12.13)
출원인 한국전력공사
등록번호/일자 10-0651218-0000 (2006.11.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20061130) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.12.13)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전력공사 대한민국 전라남도 나주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박승수 대한민국 대전광역시 유성구
2 김기형 대한민국 대전광역시 대덕구
3 안희수 대한민국 대전광역시 유성구
4 박광규 대한민국 대전광역시 유성구
5 엄희문 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이세진 대한민국 서울특별시 서초구 방배천로**길 *, *층 대양국제특허법률사무소 (방배동, 인성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2005-0728101-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.09.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.10.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0066950-37
4 등록결정서
Decision to grant
2006.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0689941-10
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.10.16 수리 (Accepted) 4-1-2007-5156605-02
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5153448-46
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2019-5136129-26
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5136893-80
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.03.27 수리 (Accepted) 4-1-2020-5072225-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
화력발전소에서 배출되는 배가스 중의 황산화물을 습식으로 처리하여 황산화물을 제거하는 습식배연탈황방법을 수행하기 위한 단일단의 가스분산판을 갖춘 배가스 처리장치에 있어서, 흡수탑(100) 내부에, 가스 분산판(121)의 하부로 배가스를 도입하기 위한 다수의 배가스 도입관(120)이 설치되어 있고, 흡수액의 월류를 위하여 가장자리 둘레에 적정 높이로 월류판(123)이 일체로 형성되어 있는 다수의 가스분사구멍(122)이 천공되어 있는 가스 분산판(121), 흡수액 슬러리를 상기 가스 분산판(121)의 하부에서 상부로 공급하기 위하여 상기 가스 분산판(121) 중심 하부에 접촉하여 설치되어 있는 흡수액 슬러리 상승관(124),상기 흡수액 슬러리 상승관(124)의 중앙 부분에 연결되어 있으며 흡수제인 석회석 슬러리가 상기 가스 분산판(121)의 상부의 기포층으로 직접 공급될 수 있도록 하기 위한 석회석 슬러리 공급관(130) 및상기 흡수액 슬러리 상승관(124)의 하부에 연결되어 있는 산화용 공기를 주입하여 기포가 발생되게 하기 위한 산화용 공기 주입관(140)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 단일단의 가스분산판을 갖춘 배가스 처리장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 월류판(123)은 상기 가스분산판(121)의 하부까지 연장되어 있는 것을 특징으로 하는 단일단의 가스 분산판을 갖춘 배가스 처리장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 가스 분사 구멍(122)의 직경은 5 ~ 20mm, 상기 가스 분사 구멍(122)의 개공비는 0
4 4
제 1항에 있어서, 상기 월류판(123)의 상단부에는 일정한 간격으로 다수의 V홈을 형성하여 기포층의 높이가 변화해도 흡수액 슬러리가 원활하게 월류될 수 있도록 구성되어 잇는 것을 특징으로 하는 단일단의 가스 분산판을 갖춘 배가스 처리장치
5 5
제 1항에 있어서, 상기 가스 분산판(121)는 원형 또는 사각형이며, 흡수액 슬러리 상승관(124)을 중앙에 원형 또는 흡수탑 중앙을 가로지르는 직사각형으로 구성되 있는 것을 특징으로 하는 단일단의 가스 분산판을 갖춘 배가스 처리장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20070134141 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN1981914 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN1981914 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 US2007134141 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.