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태양전지 도금 방법에 있어서,태양전지의 기판에 투명전극을 증착하는 단계;상기 투명전극 상에 박형(thin) 절연체를 증착하는 단계;상기 태양전지를 도금액이 수용된 도금요강에 투입하는 단계; 및상기 박형 절연체의 적어도 일부 영역을 레이저로 조사(irradiate)하여 상기 적어도 일부 영역을 선택적으로 씨앗층(seed layer)으로 도금하는 단계를 포함하고,상기 태양전지 도금 방법에는 패터닝 공정이 수행되지 않는,태양전지 도금 방법
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제1항에 있어서,상기 박형 절연체는, 산화 규소(SiOx), 산화 알루미늄(AlxOy), 질화 규소(SixNy), 실리콘 산질화물(SiOxNy) 및 산화 몰리브덴(MoOx)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는,태양전지 도금 방법
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제1항에 있어서,상기 박형 절연체의 두께는 1nm 내지 110nm인,태양전지 도금 방법
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제1항에 있어서,상기 씨앗층은, 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는,태양전지 도금 방법
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제1항에 있어서,상기 씨앗층의 표면에 추가 금속층을 도금하는 단계를 더 포함하는,태양전지 도금 방법
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제5항에 있어서,상기 추가 금속층의 표면에 캐핑층을 도금하는 단계를 더 포함하는,태양전지 도금 방법
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제5항에 있어서,상기 추가 금속층은, 구리(Cu), 은(Ag) 및 주석(Sn)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는,태양전지 도금 방법
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제6항에 있어서,상기 캐핑층은 은(Ag), 주석(Sn) 및 비스무트(Bi)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는,태양전지 도금 방법
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태양전지 도금 방법에 있어서,태양전지의 기판에 투명전극을 증착하는 단계;상기 투명전극 상에 박형 절연체를 증착하는 단계;상기 박형 절연체의 적어도 일부 영역을 레이저로 조사하여 상기 적어도 일부 영역을 활성화시키는 단계;태양전지를 도금액이 수용된 도금요강에 투입하는 단계 -상기 활성화된 일부 영역에 상기 도금액에 따른 씨앗층이 형성됨-;상기 씨앗층의 표면에 추가 금속층을 도금하는 단계; 및상기 추가 금속층의 표면에 캐핑층을 도금하는 단계를 포함하고,상기 태양전지 도금 방법에는 패터닝 공정이 수행되지 않는,태양전지 도금 방법
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