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내부가 중공인 챔버 형상으로 형성되며, 하부에 공정 가스 주입구가 형성되고 상부에 공정 가스 배출구가 형성되는 챔버부와,상기 챔버부의 내부에 위치하여 상기 챔버부의 상부에 상부 공간을 형성하면서 탄화규소 프리폼을 고정하며, 상기 공정 가스 주입구를 통하여 유입되는 공정 가스가 상기 탄화규소 프리폼의 하부로 유입되도록 하는 프리폼 고정부와,상기 프리폼 고정부의 하부에 위치하며, 상기 공정가스 주입구를 통하여 유입되는 공정가스를 냉각시켜 상기 프리폼 고정부로 공급하는 하부 냉각부 및상기 챔버부의 상부 외측에 위치하여 상기 프리폼 고정부의 상부를 가열하는 상부 발열부를 포함하며,상기 프리폼 고정부는상부에서 하부로 소정 깊이로 형성되어 상기 탄화규소 프리폼이 안착되는 프리폼 수용 홈과 상기 프리폼 수용 홈의 하면에서 하부로 개방되는 본체 가스 홀을 구비하는 고정 본체와,상기 고정 본체의 프리폼 수용 홈의 하부에 안착되며 탄화규소 프리폼의 하면을 지지하여 상기 탄화규소 프리폼의 하부에 분산 공간을 형성하는 하부 고정 수단과,판상으로 형성되고 상면에서 하면으로 관통되는 압력 가스 홀을 구비하며, 상기 탄화규소 프리폼의 상면에 안착되는 압력판 및상기 압력판의 상부에 안착되어 상기 압력판을 지지하는 상부 고정 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 기상 침착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 하부 고정 수단은 링 형상 또는 복수 개의 핀으로 형성되며,상기 상부 고정 수단은 링 형상 또는 복수 개의 핀으로 형성되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 침착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 분산 공간은 프리폼 수용 홈의 하단부와 탄화규소 프리폼의 하면과의 사이에 형성되며, 1 ∼ 10mm의 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 침착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 상부 공간의 가스 압력은 상기 분산 공간의 가스 압력보다 압력이 낮은 것을 특징으로 하는 화학 기상 침착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 공정 가스 주입구의 면적은 상기 압력 가스 홀의 전체 면적보다 면적이 큰 것을 특징으로 하는 화학 기상 침착 장치
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