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미리 설정된 파장 영역의 협대역 광을 발생하는 협대역 광원부; 및입사되는 상기 협대역 광의 파장을 미리 설정된 변경 파장으로 변경하여 출력하는 파장 모듈레이션부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 1에 있어서,상기 입사되는 입사 협대역 광을 투과하고 상기 파장이 변경된 출력 협대역 광을 반사하는 제 1 투과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 2에 있어서,상기 출력되는 출력 협대역 광을 투과하고 상기 입사되는 입사 협대역 광을 반사하는 제 2 투과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 1에 있어서,상기 파장 모듈레이션부는,기판; 및 상기 기판상에 형성된 파장 모듈레이션 물질의 층을 포함하며,상기 파장 모듈레이션 물질의 층은 입사된 미리 설정된 파장 대역의 광을 흡수하여 입사된 파장 대역보다 긴 파장 대역의 광을 방출하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 4에 있어서,상기 파장 모듈레이션 물질은 미리 설정된 나노 물질 입자인 양자점을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 5에 있어서,상기 나노 물질 입자의 크기는 변경될 파장 영역에 따라 선택되는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 6에 있어서,상기 파장 모듈레이션 물질의 층은 서로 다른 입자 크기의 상기 나노 물질 입자들을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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8
청구항 5에 있어서,상기 파장 모듈레이션 물질의 층은 상기 나노 물질 입자가 적층되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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청구항 5에 있어서,상기 파장 모듈레이션 물질의 층은 상기 나노 물질 입자가 포함된 미리 설정된 고분자 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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10
청구항 4에 있어서,상기 파장 모듈레이션 물질의 층은 서로 다른 파장 대역의 빛을 방출하는 미리 설정된 복수의 물질들을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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11
청구항 3에 있어서,상기 파장 가변 광원 시스템은,상기 입사 협대역광을 각각 서로 다른 파장으로 변경하여 출력하는 복수의 파장 모듈레이션부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 가변 광원 시스템
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