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액체주석이 수용되며, 처리가스가 투입되는 반응부; 및상기 반응부 내에 액체주석을 분무하는 분사부를 포함하며,상기 처리가스 내 질소산화물 및 황산화물 중 어느 하나 이상은 상기 반응부 내에 분사되어 수용된 상기 액체주석과 반응하여 제거되고,상기 반응부와 연결되어 마련되며, 수소가 주입되는 환원부를 더 포함하며,상기 환원부는, 상기 질소산화물 및 상기 황산화물과 반응하면서 산화된 액체주석을 상기 수소와 반응시켜 환원시키도록 마련되는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응부에서, 상기 질소산화물과 상기 액체주석 사이에 발생하는 화학 반응은, Sn+2NO -003e# SnO2+N2인 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응부에서, 상기 황산화물과 상기 액체주석 사이에 발생하는 화학 반응은, 3Sn+SO2 -003e# SnS+2SnO, 2Sn+SO2 -003e# SnS+SnO2 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응부는,상기 분사부로부터 분무된 액체주석이 수용되는 반응로;상기 반응로의 일측 상부에 연장되어 마련되며, 상기 처리가스가 유입되는 경로를 형성하는 유입로; 및상기 반응로의 타측 상부에 연장되어 마련되며, 상기 질소산화물 및 상기 황산화물이 상기 액체주석과 반응하여 생성된 질소가스 및 황가스를 배출하는 경로를 형성하는 배출로를 포함하는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응부와 연결되어 상기 반응부에 수용된 액체주석을 제공받는 고액분리부를 더 포함하며,상기 고액분리부는, 상기 액체주석 내 포함된 애쉬(ash)를 제거하도록 마련된 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 환원부에서 발생하는 화학 반응은, SnO2+2H2 -003e# Sn+2H2O, SnO+H2 -003e# Sn+H2O중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 7 항에 있어서,상기 환원부에 수용된 상기 액체주석의 온도는 섭씨 300도 이상으로 제어되는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 환원부 및 상기 분사부와 연결된 제1 펌프부를 더 포함하며,상기 제1 펌프부는, 상기 환원부에서 환원된 상기 액체주석을 상기 분사부에 공급하는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응부의 전단에 배치되는 백필터부(bag filter)를 더 포함하며,상기 백필터부는 가열로로부터 유입되는 처리가스 내 포함된 애쉬(ash)를 제거하도록 마련된 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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제 10 항에 있어서,상기 환원부 및 상기 분사부와 연결되며, 상기 환원부에서 환원된 상기 액체주석을 상기 분사부에 공급하도록 마련된 제2 펌프부를 더 포함하며,상기 제2 펌프부는, 상기 분사부로 이송되는 상기 액체주석이 상기 가열로의 내부를 통과하며 열교환하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치
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a) 처리가스를 반응부에 투입하는 단계;b) 분사부를 이용하여 상기 반응부에 투입되는 상기 처리가스에 액체주석을 분무하는 단계;c) 상기 반응부에 수용된 상기 액체주석에 포함된 애쉬(ash)를 분리하여 제거하는 단계; 및d) 상기 처리가스 내에 포함된 질소산화물 및 황산화물과 반응하면서 산화된 액체주석을 환원시키는 단계를 포함하며,상기 b) 단계에서, 상기 처리가스 내에 포함된 질소산화물 및 황산화물 중 어느 하나 이상은 상기 액체주석과 반응하여 제거되는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거방법
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제 12 항에 있어서,상기 a) 단계에서, 상기 반응부 내 액체주석의 온도는 섭씨 317도 내지 668도로 제어된 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거방법
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제 12 항에 있어서,상기 d) 단계에서,상기 산화된 액체주석은 섭씨 300도 이상의 온도에서 수소와 반응하여 환원되는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거방법
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제 12 항에 있어서,상기 d) 단계 이후에,e) 환원된 상기 액체주석을 상기 분사부에 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거방법
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제 1 항에 따른 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거장치를 이용한 배가스 탈질 및 탈황장치
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제 12 항에 따른 액체주석을 이용한 질소산화물 및 황산화물 제거방법을 이용한 배가스 탈질 및 탈황방법
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