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소지층, 상기 소지층 상부에 구비된 엔고베층 및 상기 엔고베층 상부에 구비된 결정화 유약층을 포함하는 세라믹 바닥타일에서 상기 결정화 유약층을 형성하기 위한 결정화 유약 조성물로서, 석회석 분말 10∼25중량%, 장석 분말 5∼15중량%, 알루미나 분말 10∼20중량%, 유리 프릿 20∼40중량%, 카올린 분말 10∼28중량%, 지르콘 분말 0
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 TiO2 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 결정화 유약 조성물
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 TiO2 분말은 100㎚∼5㎛의 평균 입경을 갖는 분말인 것을 특징으로 하는 결정화 유약 조성물
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 ZrO2 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 결정화 유약 조성물
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소지층, 상기 소지층 상부에 구비된 엔고베층 및 상기 엔고베층 상부에 구비된 결정화 유약층을 포함하는 세라믹 바닥타일에서 상기 결정화 유약층을 형성하기 위한 결정화 유약 조성물로서, 석회석 분말 10∼25중량%, 장석 분말 5∼15중량%, 알루미나 분말 10∼20중량%, 유리 프릿 20∼40중량%, 카올린 분말 10∼28중량%, 지르콘 분말 0
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제6항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 SnO 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 결정화 유약 조성물
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성형된 소지 상부에 엔고베 유약 조성물을 시유하고 건조하는 단계;상기 엔고베 유약 조성물이 시유된 표면 상부에 결정화 유약 조성물을 시유하고 건조하는 단계; 및상기 결정화 유약 조성물이 시유된 결과물을 소성하여 소지층, 상기 소지층 상부에 구비된 엔고베층 및 상기 엔고베층 상부에 구비된 결정화 유약층을 포함하는 세라믹 바닥타일을 수득하는 단계를 포함하며, 상기 결정화 유약 조성물은,석회석 분말 10∼25중량%, 장석 분말 5∼15중량%, 알루미나 분말 10∼20중량%, 유리 프릿 20∼40중량%, 카올린 분말 10∼28중량%, 지르콘 분말 0
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제8항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 TiO2 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 세라믹 바닥타일의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 TiO2 분말은 100㎚∼5㎛의 평균 입경을 갖는 분말인 것을 특징으로 하는 세라믹 바닥타일의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 ZrO2 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 세라믹 바닥타일의 제조방법
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성형된 소지 상부에 엔고베 유약 조성물을 시유하고 건조하는 단계;상기 엔고베 유약 조성물이 시유된 표면 상부에 결정화 유약 조성물을 시유하고 건조하는 단계; 및상기 결정화 유약 조성물이 시유된 결과물을 소성하여 소지층, 상기 소지층 상부에 구비된 엔고베층 및 상기 엔고베층 상부에 구비된 결정화 유약층을 포함하는 세라믹 바닥타일을 수득하는 단계를 포함하며, 상기 결정화 유약 조성물은,석회석 분말 10∼25중량%, 장석 분말 5∼15중량%, 알루미나 분말 10∼20중량%, 유리 프릿 20∼40중량%, 카올린 분말 10∼28중량%, 지르콘 분말 0
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제13항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 SnO 분말은 질소가 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 세라믹 바닥타일의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 플라즈마 처리된 TiO2 분말의 제조는,마이크로 크기의 TiO2 분말을 출발원료로 준비하는 단계;열 플라즈마 장치의 반응관, 사이클론 및 포집부로 순차적으로 흐르는 가스의 유동이 형성되게 펌핑하는 단계; 플라즈마 소스 가스를 플라즈마 토치에서 상기 반응관 쪽으로 분사하여 고주파 파워 서플라이로부터 유도 기전력이 인가되는 유도코일 영역에서 플라즈마를 생성하는 단계; 반응가스로서 질소 가스를 플라즈마가 형성된 영역의 상부를 향하게 주입하는 단계;플라즈마가 형성된 영역의 하부를 향하게 상기 반응관의 상단부에서 급냉가스를 주입하는 단계; 상기 출발원료를 상기 플라즈마 토치에서 상기 반응관 쪽으로 향하게 주입하여 플라즈마가 형성된 영역을 통과시키는 단계; 상기 플라즈마가 형성된 영역을 통과하면서 상기 출발원료가 열분해되면서 반응하여 플라즈마 처리되는 단계; 상기 플라즈마가 형성된 영역을 통과한 출발원료가 상기 반응관 내에서 상기 급냉가스에 의해 급냉되는 단계; 및 급냉된 분말이 상기 반응관 하단부, 상기 사이클론 하단부 또는 상기 포집부 하단부에서 포집되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 바닥타일의 제조방법
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