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다양한 오염물질을 함유한 반도체 제조 공정 배기가스 내 질소 산화물(NOx) 및 아산화질소(N2O)의 촉매 제거 방법

  • 기술번호 : KST2019010086
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 및 디스플레이 제조공정에서 배출되는 배기가스 중에서 질소산화물과 아산화질소를 저감시키는 촉매 제거 방법과 관련된 기술로서, 더욱 상세하게는 배기가스에 포함된 다양한 오염물질(산성가스, 분진등)들의 존재하에서 전처리 공정과 촉매 공정이 결합된 제거방법에 관한 것으로, 습식스크러버와 집진기가 환원촉매 반응기 혹은 분해촉매 반응기와 직렬로 연결된 시스템과 이러한 시스템을 사용한 질소산화물과 아산화질소 제거 방법을 통해 촉매의 내구성을 유지시키고 공정 트러블을 최소화하기 위해서 다양한 오염물질을 저감할 수 있는 배기가스의 통합 처리 공정을 제공할 수 있는 장점이 있다.
Int. CL B01D 53/86 (2006.01.01) B01D 47/02 (2006.01.01) B01D 53/32 (2006.01.01) B01J 29/072 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC B01D 53/8628(2013.01) B01D 53/8628(2013.01) B01D 53/8628(2013.01) B01D 53/8628(2013.01) B01D 53/8628(2013.01) B01D 53/8628(2013.01)
출원번호/일자 1020170172152 (2017.12.14)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-2016751-0000 (2019.08.26)
공개번호/일자 10-2019-0071265 (2019.06.24) 문서열기
공고번호/일자 (20191014) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.12.14)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전상구 대전광역시 서구
2 이승재 대전광역시 유성구
3 유인수 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤병국 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)
2 이영규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2017-1247253-28
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.05.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.06.22 수리 (Accepted) 9-1-2018-0029793-78
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0846113-31
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.01.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0059474-47
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-0059473-02
8 등록결정서
Decision to grant		 2019.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0461752-56
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
11 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
 2019.10.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5031365-63
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
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번호 청구항
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배기가스를 습식 스크러버에 공급하는 제1단계;상기 습식 스크러버를 통과한 배기가스를 전기 집진기에 공급하는 제2단계; 및상기 전기 집진기를 지난 배기가스를 분해촉매 반응기로 공급하는 제3단계;를 포함하고,상기 습식 스크러버에는 오존이 공급되고, 상기 분해촉매 반응기에는, 질산로듐 수용액이 Al2O3-CeZr 복합산화물로 이루어진 담체에 함침되어 얻어진 분해촉매가 포함되어 있는 것을 특징으로 하는, 반도체 공정에서 배출되는 배기가스로부터 촉매를 사용하여 아산화질소를 제거하는 방법
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제6항에 있어서,상기 습식 스크러버에서, 염기성 용액을 사용하여 산성가스를 포집하고,공급되는 오존에 의해 NO가 NO2로 전환된 후, 추가로 공급되는 황화나트륨(Na2S)와 반응하여 환원되는 것을 특징으로 하는, 반도체 공정에서 배출되는 배기가스로부터 촉매를 사용하여 아산화질소를 제거하는 방법
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제6항에 있어서, 상기 전기 집진기에서, 전기 하전을 통해 수분 입자를 응집시켜 제거하는 것을 특징으로 하는, 반도체 공정에서 배출되는 배기가스로부터 촉매를 사용하여 아산화질소를 제거하는 방법
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반도체 공정에서 배출되는 배기가스로부터 아산화질소의 제거하는 방법에 있어서,반도체 공정 배기가스 중의 일산화질소 및 아산화질소의 농도를 측정하는 제1단계; 및상기 제1단계에서 측정된 아산화질소의 농도가 200ppm 미만인 경우에는, 상기 배기가스를 환원 촉매 반응법으로 처리하고, 상기 제1단계에서 측정된 아산화질소의 농도가 200ppm 초과인 경우에는, 상기 배기가스를 제6항 내지 제8항 중 어느 하나의 방법으로 처리하는 단계;를 포함하되, 상기 환원 촉매 반응법은, 상기 배기가스를 습식 스크러버에 공급하는 제1단계; 상기 습식 스크러버를 통과한 배기가스를 전기 집진기에 공급하는 제2단계; 및 상기 전기 집진기를 지난 배기가스를 환원촉매 반응기로 공급하는 제3단계;를 포함하고, 상기 환원촉매 반응기에는 환원제로 암모니아가 공급되는 것을 특징으로 하는, 반도체 공정에서 배출되는 배기가스로부터 촉매를 사용하여 아산화질소를 제거하는 방법
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1 환경부 한국에너지기술연구원 글로벌탑 환경기술개발사업 고/저농도 N2O 저감 촉매 및 통합 처리 공정 개발