| 1 |
1
티타늄 분말이 탈산되는 탈산 챔버,상기 탈산 챔버의 하부에 연결되며 상기 탈산 챔버 내부 중앙으로 증기를 투입하는 증기 투입부,상기 탈산 챔버의 내부에 위치하며 상기 티타늄 분말을 유동시키는 유동 제어부, 그리고상기 탈산 챔버의 바닥에 위치하며, 상기 유동 제어부 외곽에 대응하여 위치하는 분산부를 포함하고,상기 유동 제어부는 상기 증기 투입부에 대응하는 위치에 고정 설치되는 복수의 격벽이며,상기 분산부는 상기 탈산 챔버의 바닥인 분산판,상기 분산판을 관통하며 형성되는 가스 투입관, 그리고상기 가스 투입관의 상부에 위치하는 덮개를 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 증기 투입부에 투입되는 증기는 칼슘 가스를 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 덮개는 상기 탈산 챔버의 내부에 위치하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 덮개는 상기 가스 투입관과 이격되어 위치하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 증기 투입부 주변에 위치하며 제1 가스를 투입하는 제1 가스 투입부, 그리고상기 분산부 아래에 위치하며 상기 제1 가스보다 낮은 압력의 제2 가스를 상기 분산부를 통해 상기 탈산 챔버 내부에 투입하는 제2 가스 투입부를 더 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 제1 가스는 불활성 가스 또는 칼슘 가스 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 제2 가스는 불활성 가스를 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 증기의 온도는 850 oC 내지 1100 oC 인 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 탈산 챔버의 일측 상부에 위치하며 상기 티타늄 분말이 유입되는 분말 유입부, 그리고상기 탈산 챔버의 타측 하부에 위치하며 상기 티타늄 분말이 유출되는 분말 유출부를 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 탈산 챔버를 둘러싸는 발열 부재를 더 포함하는 티타늄 분말 제조용 탈산 장치
|
