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중량%로, WC: 70%이상 및 나머지 Co, Ni 및 CoCr 중 1종 이상을 함유하는 용사코팅재를 준비하는 단계;상기 용사코팅재를 저항 용접용 전극에 용사 분사하여 10 ~ 200㎛의 두께의 용사 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 용사 코팅층을 표면 실링하는 단계를 포함하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 용사코팅재는 분말형태를 갖고, 분말의 평균크기는 5~50㎛인 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 용사 코팅층 형성단계 전에, 전극 표면에 조도를 부여하는 단계를 추가하는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 전극 표면에 조도를 부여하는 단계는 블라스팅(blasting)에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 용사 코팅층 형성단계는 대기중 용사 코팅법, 고속용사법, 저온 분사 (cold spray)법 및 웜 스프레이법 중 어느 하나의 방법에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 용사 코팅층을 표면 실링하는 단계는 에폭시계 수지를 용사 코팅층의 표면에 도포한 후, 상온 ~ 200℃의 온도범위에서 경화처리하는 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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중량%로, WC: 70%이상 및 나머지 Co, Ni 및 CoCr 중 1종 이상을 함유하는 용사코팅재를 준비하는 단계;상기 용사코팅재를 저항 용접용 전극에 용사 분사하여 10 ~ 200㎛의 두께의 용사 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 용사 코팅층을, 불활성 분위기, 환원 분위기 및 진공 분위기 중 어느 하나의 분위기하에서 300~700℃의 온도에서 30분 ~ 8시간 동안 후 열처리하는 단계를 포함하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 용사코팅재는 분말형태를 갖고, 분말의 평균크기는 5~50㎛인 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 용사 코팅층 형성단계 전에, 전극 표면에 조도를 부여하는 단계를 추가하는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 전극 표면에 조도를 부여하는 단계는 블라스팅(blasting)에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 용사 코팅층을, 불활성 분위기, 환원 분위기 및 진공 분위기 중 어느 하나의 분위기하에서 300~700℃의 온도에서 30분 ~ 8시간 동안 후 열처리한 다음, 후 열처리된 용사 코팅층을 표면 실링하는 저항 용접용 전극의 코팅방법
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제11항에 있어서, 상기 용사 코팅층의 표면 실링은 에폭시계 수지를 용사 코팅층의 표면에 도포한 후, 상온 ~ 200℃의 온도범위에서 경화처리하는 것으로 실시되는 것을 특징으로 하는 저항 용접용 전극의 제조방법
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