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대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도를 보정하라는 명령을 입력하도록 구성된 광 산란 반사도 보정 명령 입력부; 및상기 광 산란 반사도 보정 명령 입력부로부터 광 산란 반사도 보정 명령을 입력받으면 이에 따라 레일리 성분(Rayleigh component)을 보정하고, 2개의 근적외선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 획득하며, 획득된 상기 2개의 근적외선 대역 중 단파장 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도에 대응되는 파장을 갖는 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 산출하며, 상기 산출된 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들 중 상기 단파장 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도와 근접한 반사도를 갖는 두 개의 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 선택하여 선택된 상기 두 개의 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들과, 그것들의 반사도를 이용하여 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 추정하도록 구성된 가시광선 대역 에어로졸 다중 산란 반사도 추정부를 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가시광선 대역 에어로졸 다중 산란 반사도 추정부로부터 추정된 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 출력하도록 구성된 디스플레이부를 더 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 2개의 근적외선 대역은 745nm의 단파장 대역과 865nm의 장파장 대역을 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 장치
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2개의 근적외선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 획득하는 단계;획득된 상기 2개의 근적외선 대역 중 단파장 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도에 대응되는 파장을 갖는 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 산출하는 단계;상기 산출된 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들 중 상기 단파장 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도와 근접한 반사도를 갖는 두 개의 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 선택하는 단계; 및선택된 상기 두 개의 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들과, 그것들의 반사도를 이용하여 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 추정하는 단계를 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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제 4 항에 있어서,상기 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 추정하는 단계에서 추정된 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도가 디스플레이부에 의해 출력되는 단계를 더 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 2개의 근적외선 대역은 745nm의 단파장 대역과 865nm의 장파장 대역을 포함하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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제 4 항에 있어서,상기 단파장 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 산출하는 단계는다음의 [수학식 7]을 이용하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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제 4 항에 있어서,상기 에어로졸 다중 산란 반사도 모델들을 선택하는 단계는 다음의 [수학식 8]을 이용하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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제 4 항에 있어서,상기 가시광선 대역의 에어로졸 다중 산란 반사도를 추정하는 단계는다음의 [수학식 11]을 이용하는, 대기 에어로졸 입자에 의한 광 산란 반사도 보정 방법
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