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기판 상에 배치되는 후면전극을 포함하고, 상기 후면전극은상기 기판쪽 계면에 위치하고 제1 구조를 갖는 제1 부분 영역(first domain);상기 기판쪽 계면과 반대쪽에 위치하고 제2 구조를 갖는 제2 부분 영역(second domain); 및상기 제1 부분 영역과 상기 제2 부분 영역 사이에 존재하고, 상기 제1 부분 영역으로부터 상기 제2 부분 영역으로 향하는 방향으로 구조가 상기 제1 구조에서 상기 제2 구조로 점진적으로 변하는 제1 구배 부분 영역(first gradient domain);을 포함하고,상기 제1 부분 영역, 상기 제2 부분 영역 및 상기 제1 구배 부분 영역이 동일한 조성의 물질로 이루어지는 것인 박막 태양전지
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제1항에 있어서,상기 후면전극은, 상기 제2 부분 영역 상에 위치하고 제3 구조를 갖는 제3 부분 영역(third domain); 및상기 제2 부분 영역과 상기 제3 부분 영역 사이에 존재하고, 상기 제2 부분 영역으로부터 상기 제3 부분 영역으로 향하는 방향으로 구조가 상기 제2 구조에서 상기 제3 구조로 점진적으로 변하는 제2 구배 부분 영역(second gradient domain);을 더 포함하고,상기 제1 부분 영역, 상기 제2 부분 영역, 상기 제3 부분 영역, 상기 제1 구배 부분 영역 및 상기 제2 구배 부분 영역이 동일한 조성의 물질로 이루어지는 것인 박막 태양전지
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제1항에 있어서,상기 후면전극은 상기 기판의 수직 방향으로 분리되는 것인 박막 태양전지
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제1항에 있어서,상기 후면전극은 전기전도성을 가지는 금속 및 투명전도성 산화물 중에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 박막 태양전지
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 후면전극의 비저항은 10 mΩ·cm 이하인 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 후면전극의 두께는 300 내지 2000 nm 인 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 기판은 유리, 유기고분자, 스테인레스 강판 및 철계 강판 중에서 선택되는 하나 이상의 물질을 포함하는 박막 태양전지
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10
제1항에 있어서,상기 후면전극 상에 배치되고, 금속 칼코게나이드를 포함하는 광흡수층; 및상기 광흡수층 상에 배치되는 투명전극;을 더 포함하는 박막 태양전지
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기판 상에 스퍼터링(sputtering) 증착으로 후면전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 스퍼터링 증착은 두 종류 이상의 서로 다른 공정 조건에서 수행되고,상기 서로 다른 공정 조건 사이에는 공정 조건이 점진적으로 변하여 서로 다른 구조 사이에 구조가 점진적으로 변하는 구배 부분 영역(gradient domain)을 형성시키는 것을 특징으로 하는 박막 태양전지의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 스퍼터링 증착은 대기 중 노출이 없이 연속 공정으로 수행되는 것인 박막 태양전지의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 스퍼터링 증착의 공정 조건은 스퍼터 파워 및 스퍼터 압력으로 조절하는 박막 태양전지의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 후면전극은 동일한 조성의 물질을 이용하여 증착되는 박막 태양전지의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 형성된 후면전극을 상기 기판의 수직 방향으로 레이저 광을 조사하여 분리시키는 단계를 더 포함하는 박막 태양전지의 제조방법
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