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초고감도 광 센서를 위한 투과도 조절 시스템 및 방법

  • 기술번호 : KST2019011328
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투과도 조절 시스템으로서, 특정 주파수의 전자기파를 증폭시키는 센싱 소자; 및 상기 센싱 소자에 형성된 슬랏의 내부에 타겟 물질을 집속시키기 위한 스퀴지를 포함하되, 상기 스퀴지에 의하여 상기 슬랏의 내부에 집속된 타겟 물질의 농도에 따라 상기 센싱 소자의 투과도가 조절되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G02B 1/00 (2006.01.01)
CPC G02B 1/002(2013.01) G02B 1/002(2013.01)
출원번호/일자 1020180000351 (2018.01.02)
출원인 한국과학기술연구원, 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단
등록번호/일자 10-1993548-0000 (2019.06.20)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20190627) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.01.02)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
2 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서민아 서울특별시 성북구
2 유용상 서울특별시 성북구
3 전영민 서울특별시 성북구
4 김재헌 서울특별시 성북구
5 이택진 서울특별시 성북구
6 김철기 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 티앤아이 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
2 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2018.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0004583-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2018-0021231-55
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0848080-69
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.02.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0132741-80
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.02.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0132742-25
7 등록결정서
Decision to grant		 2019.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0420327-60
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번호 청구항
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특정 주파수의 전자기파를 증폭시키는 센싱 소자, 및 상기 센싱 소자에 형성된 슬랏의 내부에 타겟 물질을 집속시키기 위한 스퀴지를 포함하는 투과도 조절 시스템에서 수행되는 투과도 조절 방법에 있어서,(a) 상기 센싱 소자 표면에 상기 타겟 물질을 포함하는 용매가 도포되는 단계; 및(b) 상기 도포된 용매가 완전히 말려진 후 건조된 시료에 분무형식으로 물이 도포되는 단계; 및(c) 상기 센싱 소자 표면에서 상기 스퀴지가 슬라이딩 되면서, 상기 센싱 소자에 형성된 슬랏의 내부로 상기 타겟 물질이 집속되는 단계를 포함하되,상기 스퀴지에 의하여 상기 슬랏의 내부에 집속된 타겟 물질의 농도에 따라 상기 센싱 소자의 투과도가 조절되는 것을 특징으로 하는 투과도 조절 방법
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제7항에 있어서,상기 단계 (a) 내지 (c)가 반복 수행되는 횟수가 증가함에 따라 상기 슬랏의 내부에 집속되는 타겟 물질의 농도가 증가되고, 상기 슬랏의 내부에 집속된 타겟 물질의 농도의 증가에 따라 상기 센싱 소자의 투과도가 감소되는 것을 특징으로 하는 투과도 조절 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10656082 US 미국 FAMILY
2 US20190204215 US 미국 FAMILY

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1 US10656082 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2019204215 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 (재)파동에너지극한제어연구단 원천기술개발사업-글로벌프런티어사업 계층구조 메타물질의 기계/전자기파 응용기술