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레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치로,상기 복합 암치료장치는: 레이저빔 진행관을 통해 진행하는 펄스 레이저;상기 레이저빔 진행관으로부터 입사한 레이저빔을 타겟챔버로 전송하는 제1 스위칭거울챔버;상기 제1 스위칭거울챔버를 거쳐 입사한 레이저빔이 직접 또는 하나 이상의 거울을 거쳐 전자빔 발생용 레이저빔은 전자빔 타겟에 입사하고 양성자빔 발생용 레이저빔은 양성자빔 타겟에 입사하도록 거울과 타겟을 배열하고, 상기 양성자빔 타겟에서 발생한 양성자빔이 배출되는 입자배출구 및 상기 전자빔 타겟에서 발생한 전자빔이 배출되는 입자배출구를 구비한 타겟챔버;상기 타겟챔버의 배출구와 연결되고 상기 양성자빔 및 상기 전자빔의 경로를 제어하여 미리 정한 위치에 상기 양성자빔과 상기 전자빔을 조사하되, 상기 미리 정한 지점을 중심으로 회전가능한 양성자빔 경로조절부 및 전자빔 경로조절부; 및상기 양성자빔 경로조절부 및 상기 전자빔 경로조절부의 상기 미리 정한 위치에 환자가 위치하는 환자지지부를 포함하고, 상기 레이저가 진행하는 진행관, 상기 제1 스위칭 거울챔버, 상기 타겟챔버, 상기 양성자빔 경로조절부 및 상기 전자빔 경로조절부는 진공이 유지되는, 레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치로,상기 복합 암치료장치는: 레이저빔 진행관을 통해 진행하는 펄스 레이저;상기 레이저빔 진행관과 연결되고, 상기 펄스 레이저의 레이저빔을 선택적으로 직진시키거나 레이저 진행방향으로부터 미리 정한 각도로 반사시켜 레이저빔 연결관으로 진행시키는 제2 스위칭거울챔버;상기 레이저빔 연결관을 통해 상기 제2 스위칭거울챔버와 연결되며, 상기 레이저빔 연결관으로부터 입사한 레이저빔을 연결챔버로 전송하는 레이저빔챔버;상기 레이저빔챔버와 연결되며 상기 레이저빔챔버로부터 입사하는 레이저빔을 타겟챔버로 전송하는 연결챔버;상기 제2 스위칭거울챔버에서 직진하는 경로상의 레이저빔 진행관과 연결되며, 상기 직진하는 레이저빔을 타겟챔버로 전송하는 제1 스위칭거울챔버;상기 제1 스위칭거울챔버를 거쳐 입사한 양성자빔 발생용 레이저빔이 양성자빔 타겟에 입사하고, 상기 제2 스위칭거울챔버에서 입사한 전자빔 발생용 레이저빔은 하나 이상의 거울을 거쳐 전자빔 타겟에 입사하도록 거울과 타겟을 배열하고, 상기 양성자빔 타겟에서 발생한 양성자빔이 배출되는 입자배출구 및 상기 전자빔 타겟에서 발생한 전자빔이 배출되는 입자배출구를 구비한 타겟챔버;상기 타겟챔버의 배출구와 연결되고 상기 양성자빔과 상기 전자빔의 경로를 제어하여 미리 정한 위치에 상기 양성자빔과 상기 전자빔을 조사하되, 상기 미리 정한 지점을 중심으로 회전가능한 양성자빔 경로조절부 및 전자빔 경로조절부; 및상기 양성자빔 경로조절부 및 상기 전자빔 경로조절부의 상기 미리 정한 위치에 환자가 위치하는 환자지지부를 포함하고, 상기 레이저가 진행하는 진행관, 상기 제1 스위칭 거울챔버, 상기 제2 스위칭 거울챔버, 상기 연결관, 상기 연결챔버, 상기 타겟챔버, 상기 양성자빔 경로조절부 및 상기 전자빔 경로조절부는 진공이 유지되는, 레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 전자빔 발생용 레이저빔은 상기 전자빔 타겟에 입사시 상하 또는 좌우방향으로 반복 주사(scanning)될 수 있도록 상기 전자빔 발생용 레이저빔 반사 거울을 미세조정하고, 상기 전자빔 타겟은 상기 반복 주사가 가능한 크기의 단면적을 가지는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양성자빔이 배출되는 입자배출구는 상기 전자빔이 배출되는 입자배출구와 동일하고,상기 양성자빔 타겟 및 상기 전자빔 타겟을 타겟위치에 순차적으로 교대하여 배열하고, 상기 전자빔 타겟이 상기 타겟위치에 배열될 때는 전자빔 발생용 레이저빔이 상기 전자빔 타겟으로 입사하고, 상기 양성자빔 타겟이 상기 타겟위치에 배열될 때는 양성자빔 발생용 레이저빔이 상기 양성자빔 타겟으로 입사하도록 제어하는 제어부를 더 구비하는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 4항에 있어서,상기 양성자빔 경로조절부와 상기 전자빔 경로조절부는, 선택적으로 양성자빔 또는 전자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자;선택적으로 양성자빔 또는 전자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석; 및양성자빔 또는 전자빔을 선택하는 스위치부를 포함하는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 4항에 있어서,상기 양성자빔 경로조절부와 상기 전자빔 경로조절부는,상기 입자배출구에서 배출된 상기 양성자빔 및 전자빔을 분리하는 입자빔 분리기; 상기 분리기를 통해 분리된 양성자빔의 경로를 조절하는 양성자빔 경로조절부; 및상기 분리기를 통해 분리된 전자빔의 경로를 조절하되, 상기 양성자빔 경로조절부의 회전반경 내부에서 회전하며, 상기 회전시에 상기 양성자빔 경로조절부와 겹치지 않는 전자빔 경로조절부를 포함하고,상기 양성자빔 경로조절부는 양성자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 양성자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하고,상기 전자빔 경로조절부는 전자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 전자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양성자빔이 배출되는 입자배출구는 상기 전자빔이 배출되는 입자배출구와 분리되어 위치하고,상기 양성자빔 발생용 레이저빔과 상기 전자빔 발생용 레이저빔은 서로 동시에 또는 순차적으로 각각 상기 양성자빔 타겟 또는 상기 전자빔 타겟으로 입사하도록 제어하는 제어부를 더 구비하는, 레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 7항에 있어서,상기 양성자빔 경로조절부와 상기 전자빔 경로조절부는, 상기 분리되어 위치하는 양성자빔 배출기를 통해 배출된 양성자빔의 경로를 조절하는 양성자빔 경로조절부; 및상기 분리되어 위치하는 전자빔 배출기를 통해 배출된 전자빔의 경로를 조절하되, 상기 양성자빔 경로조절부의 회전반경 내부에서 회전하며, 상기 회전시에 상기 양성자빔 경로조절부와 겹치지 않는 전자빔 경로조절부를 포함하고,상기 양성자빔 경로조절부는 양성자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 양성자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하고,상기 전자빔 경로조절부는 전자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 전자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하고,양성자빔 또는 전자빔을 선택하는 스위치부를 포함하는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 7항에 있어서,상기 양성자빔 경로조절부와 상기 전자빔 경로조절부는,상기 분리되어 위치하는 양성자빔 배출기를 통해 배출된 양성자빔의 경로를 조절하는 양성자빔 경로조절부; 및상기 분리되어 위치하는 전자빔 배출기를 통해 배출된 전자빔의 경로를 조절하되, 상기 양성자빔 경로조절부와 대향하는 위치에서 회전하며, 상기 회전시에 상기 양성자빔 경로조절부와 겹치지 않는 전자빔 경로조절부를 포함하고,상기 양성자빔 경로조절부는 양성자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 양성자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하고,상기 전자빔 경로조절부는 전자빔을 집속하는 하나 이상의 자기 4극자와 전자빔의 경로제어를 위한 하나 이상의 전자석을 포함하는,레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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제 1항에 있어서,상기 펄스레이저의 에너지는 100 테라와트(TW) 이상이고, 상기 펄스레이저의 펄스폭은 1피코초(ps) 이하인, 레이저 가속기반 양성자빔과 전자빔 복합 암치료장치
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