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평면 스테인리스 스틸(SUS) 지지체; 및 상기 지지체 표면에 코팅된 그래핀 층을 포함하고, 상기 그래핀 층은 다공성(porous) 구조로 형성되며,상기 그래핀 층은 대기압 화학 기상 증착(APCVD)법에 의해 형성되고,상기 그래핀 층은 라만 분광법(Raman Spectra)에 따른 ID/IG 값이 0 초과 0
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제1항에 있어서,상기 그래핀 층은 단층(single layer)인 것을 특징으로 하는 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체
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(a)평면 스테인리스 스틸 지지체의 표면을 세정하는 단계; 및(b)상기 세정된 평면 스테인리스 스틸 지지체의 표면에 대기압 화학 기상 증착(APCVD)을 이용하여 그래핀 층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 그래핀 층은 다공성 구조로 형성되며,상기 (b)단계는 대기압 화학 기상 증착 챔버 내의 압력이 750torr 내지 850torr로 제어되고,상기 (b)단계는 대기압 화학 기상 증착 반응 온도가 950℃내지 1050℃로 제어되며,상기 (b)단계는 40분 내지 50분 동안 수행되는 것인 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 (a)단계는 초음파(Ultrasonic)를 이용하여 아세톤(Acetone), 초순수(DI water), 염산(HCl), 및 이소프로필알콜(IPA) 에서 각각 9분 내지 11분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 (b)단계는 (b1)대기압 화학 기상 증착 챔버를 아르곤(Ar) 및 수소(H2)를 이용하여 2회 이상 플러싱(flushing)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 (b)단계는 (b2)대기압 화학 기상 증착 챔버 내 비활성 기체와 수소의 혼합물을 투입한 후 목표 온도 도달 시 탄화수소를 투입하는 단계를 더 포함하고, 상기 비활성 기체 : 수소 : 탄화수소의 부피비는 2 : 1 : 0
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제12항에 있어서, 상기 비활성 기체는 아르곤(Ar), 헬륨(He), 네온(Ne) 및 제논(Xe)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체의 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 탄화수소는 알칸(alkane)계, 알켄(alkene)계 및 알킨(alkyne)계 탄화수소로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 코팅 스테인리스 스틸 지지체의 제조 방법
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