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서로 마주하는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하는 전극, 그리고 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하며, 박리된 α-ZrP 입자 및 박리된 α-TiP 입자 중 적어도 하나를 포함하는 분산액을 포함하고, 상기 입자는 네마틱(nematic) 상태이며, 상기 전극에 인가된 전기장에 의해 상기 α-ZrP 입자 및 α-TiP 입자 중 적어도 하나의 배열이 변하는 광학 소자
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제1항에서,상기 전극은 화소 전극과 공통 전극을 포함하고,상기 화소 전극과 상기 공통 전극은 동일 기판 상에 위치하는 광학 소자
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제1항에서,상기 전극은 화소 전극과 공통 전극을 포함하고,상기 화소 전극은 상기 제1 기판 상에 위치하고,상기 공통 전극은 상기 제2 기판 상에 위치하는 광학 소자
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제1항에서,상기 α-ZrP 입자 및 상기 α-TiP 입자 중 적어도 하나는 디스크 구조를 가지며,상기 α-ZrP 입자 및 상기 α-TiP 입자의 표면에 모노머(monomer) 또는 분자량 500 이하의 폴리머(polymer) 또는 올리고머(oligomer)가 결합된 광학 소자
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제1항에서,상기 α-ZrP 입자 및 α-TiP 입자 중 적어도 하나는 상기 분산액 전체 함량에 대해 0
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제1항에서,상기 분산액은 유기 용매를 포함하고, 상기 유기 용매는 아세톤(acetone), 디메틸포르아미드(DMF), N-메틸피롤리디논(NMP), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), 아이피에이(isopropyl alcohol), 톨루엔(toluene), 테트라하이드로퓨란(THF) 및 이들의 혼합물 중 적어도 하나를 포함하는 광학 소자
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제1항에서,상기 광학 소자는 광원부를 더 포함하는 광학 소자
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8
제1항에서,상기 전극에 의해 상기 분산액에 1 kHz를 초과하는 주파수를 가지는 전기장을 인가하면, 상기 입자가 상기 전기장에 나란한 방향으로 배열되고, 상기 전극에 의해 상기 분산액에 10 Hz 미만의 주파수를 가지는 전기장을 인가하면, 상기 입자가 등방(isotropic) 상태로 배열되는, 광학 소자
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제1항에서, 상기 전극에 의해 상기 분산액에 10 Hz 내지 1 kHz 주파수의 전기장을 인가하면, 상기 입자가 네마틱(nematic) 상태를 유지하며 상기 전기장에 수직한 방향으로 배열되고, 상기 전극에 의해 상기 분산액에 10 Hz 미만의 주파수의 전기장을 인가하면, 상기 입자가 등방(isotropic) 상태로 배열되는, 광학 소자
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10
제1항에서,서로 마주하는 제1 편광판 및 제2 편광판을 더 포함하고,상기 전극에 의해 인가된 상기 전기장 방향을 상기 제1 편광판 및 상기 제2 편광판 중 적어도 하나의 편광 방향과 180도의 각도를 이루거나, 45도 각도를 갖도록 하여 상기 입자의 배열 방향을 조절하는 광학 소자
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11
제1항에서,상기 분산액은 2 wt% 내지 5 wt%의 상기 α-ZrP 입자 또는 α-TiP 입자를 포함하는 광학 소자
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12
제11항에서, 상기 α-ZrP 입자 또는 α-TiP 입자의 배열은 상기 전기장의 제거 뒤에도 유지되는 광학 소자
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서로 마주하는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하는 전극, 그리고상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하는 분산액을 포함하고,상기 분산액은 복수의 층을 포함하는 α-ZrP 입자 및 α-TiP 입자 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 입자는 등방(isotropic) 상태고, 상기 전극에 인가된 전기장에 의해 상기 α-ZrP 입자 및 α-TiP 입자 중 적어도 하나의 배열이 변하는 광학 소자
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제13항에서,상기 복수의 층은 10층 내지 50 층인 광학 소자
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제13항에서,상기 분산액은 0
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서로 마주하는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하는 전극, 그리고 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 사이에 위치하며, 박리된 α-ZrP 입자 및 박리된 α-TiP 입자 중 적어도 하나를 포함하는 분산액을 포함하고,상기 입자는 라멜라(lamellar) 상태이며,상기 전극에 인가된 전기장에 의해 빛을 선택적으로 반사하는 광학 소자
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17
제16항에서,상기 전극은 화소 전극과 공통 전극을 포함하고,상기 화소 전극과 상기 공통 전극은 동일 기판 상에 위치하는 광학 소자
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18
제16항에서,상기 전극은 화소 전극과 공통 전극을 포함하고,상기 화소 전극은 상기 제1 기판 상에 위치하고,상기 공통 전극은 상기 제2 기판 상에 위치하는 광학 소자
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19
제16항에서,상기 α-ZrP 입자 또는 상기 α-TiP 입자는, 디스크 구조를 가지며 표면에 분자량 500 이상의 폴리머(polymer) 또는 올리고머(oligomer)가 결합된 광학 소자
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제16항에서,상기 α-ZrP 입자 또는 α-TiP 입자 중 적어도 하나는 상기 분산액 전체 함량에 대해 0
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제16항에서,상기 분산액에 포함되는 상기 입자의 농도가 높아질수록 반사광의 파장이 짧아지는 광학 소자
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제16항에서,상기 분산액은 유기 용매를 포함하고,상기 유기 용매는 아세톤(acetone), 디메틸포르아미드(DMF), N-메틸피롤리디논(NMP), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), 아이피에이(isopropyl alcohol), 톨루엔(toluene), 테트라하이드로퓨란(THF) 및 이들의 혼합물 중 적어도 하나를 포함하는 광학 소자
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제16항에서,상기 전극에 의해 인가되는 상기 전기장의 주파수를 변조함에 따라 상기 입자의 배열이 상기 전기장에 나란한 방향으로의 라멜라(lamellar) 상태와 등방(isotropic) 상태를 오가거나, 상기 전기장에 나란한 방향으로의 라멜라 상태와 안티 네마틱(anti-nematic) 상태를 오가며 광반사율이 변하는 광학 소자
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24
제16항에서,상기 전극에 의해 인가되는 상기 전기장의 주파수를 변조함에 따라 상기 입자의 배열이 상기 전기장에 수직한 방향으로의 라멜라(lamellar) 상태와 등방(isotropic) 상태를 오가거나, 상기 전기장에 수직한 방향으로의 라멜라 상태와 안티 네마틱(anti-nematic) 상태를 오가며 광반사율이 변하는 광학 소자
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25
제16항에서,상기 α-ZrP 입자 또는 α-TiP 입자의 배열은 상기 전기장의 제거 뒤에도 유지되는 광학 소자
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