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마이크로웨이브가 발생되는 마그네트론 안테나;상기 마이크로웨이브가 전파되는 복수의 진공 챔버;상기 진공 챔버의 중심에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 유도 안테나; 상기 진공 챔버 내부에 위치하며, 회전하여 종자를 교반하는 교반 챔버;를 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 복수의 진공 챔버는 상기 마그네트론 안테나를 중심으로 대칭으로 배치되는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 복수의 진공 챔버는 상기 마그네트론 안테나를 중심으로 원형으로 배치되는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 교반 챔버를 회전시키기 위한 적어도 하나의 회전 모터;를 더 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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제4 항에 있어서, 상기 회전 모터가 복수 개이고, 상기 회전 모터는 각 진공 챔버마다 설치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 교반 챔버는, 교반 날개 및 종자처리 공간을 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 플라즈마 유도 안테나에 의해 발생된 플라즈마는 종자의 표면을 살균하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 마이크로웨이브의 일부는 종자 내부에 전달되어 종자의 내부를 살균하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 마그네트론 안테나에서 발생된 마이크로웨이브가 도파되는 도파관;을 더 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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제10 항에 있어서, 상기 마이크로웨이브 에너지 매칭을 위하여 상기 도파관 내에 3-stub tuner가 배치되는 플라즈마 종자처리 장치
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제11 항에 있어서, 상기 3-stub tuner는 상기 도파관 내 파장의 λg/4의 간격으로 배치되는 플라즈마 종자처리 장치
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제12 항에 있어서, 상기 플라즈마 유도 안테나는 λg/4의 간격으로 배치되는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 플라즈마 유도 안테나 주위를 감싸는 절연체 튜브;를 더 포함하고, 상기 절연체 튜브의 일부는 진공 상태에서 밀폐가 유지되도록 구성되는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 상기 교반 챔버 내부에 탈착 가능한 테프론 뚜껑;을 더 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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제15 항에 있어서, 상기 테프론 뚜껑은 종자 크기보다 작은 바람 구멍을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 종자처리 장치
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제1 항에 있어서, 종자의 투입 및 수거를 위한 도어;를 더 포함하는 플라즈마 종자처리 장치
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마그네트론에 전력을 인가하는 단계;상기 인가된 전력에 의해 마그네트론 안테나에서 마이크로웨이브가 발생하는 단계;상기 마이크로웨이브가 진공챔버 내부에 전파되는 단계;를 포함하며, 상기 진공챔버 내부에 전파된 상기 마이크로웨이브 중 일부는 플라즈마를 발생시키도록 사용되고, 상기 마이크로웨이브 중 일부는 종자 내부에 전달되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 종자처리 방법
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제18 항에 있어서, 상기 플라즈마 발생에 의해 종자의 표면이 살균되는 플라즈마를 이용한 종자처리 방법
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제18 항에 있어서, 상기 종자 내부에 전달된 마이크로웨이브에 의해 종자의 내부가 살균되는 플라즈마를 이용한 종자처리 방법
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제18 항에 있어서, 상기 진공 챔버는 복수 개로 구성되는 플라즈마를 이용한 종자처리 방법
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