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하기 화학식 1로 표시되는 불소계 고분자: [화학식 1](상기 화학식 1에서, Rf는 C1-20의 불소화된 직쇄 알킬 또는 C3-20의 불소화된 분지쇄 알킬이고;R1-4는 각각 독립적으로 수소(H), 메틸(CH3) 또는 할로겐기이고;R5는 C1-20의 직쇄 알킬 또는 C3-20의 분지쇄 알킬이고;x+y+p+q=100인 중량비 기준으로, x는 45-55이고, y는 30-40이며, p는 1-10이고, q는 10-20이며;z는 1-5이다)
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제1항에 있어서,상기 불소계 고분자는 수평균분자량이 5,000-500,000인 것을 특징으로 하는 불소계 고분자
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제1항에 있어서,상기 불소계 고분자는 유기 용매에 용해되는 것을 특징으로 하는 불소계 고분자
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하기 화학식 1로 표시되는 불소계 고분자 및 유기 용매를 포함하는 불소계 고분자 조성물:[화학식 1](상기 화학식 1에서,Rf는 C1-20의 불소화된 직쇄 알킬 또는 C3-20의 불소화된 분지쇄 알킬이고;R1-4는 각각 독립적으로 수소(H), 메틸(CH3) 또는 할로겐기이고;R5는 C1-20의 직쇄 알킬 또는 C3-20의 분지쇄 알킬이고;x+y+p+q=100인 중량비 기준으로, x는 45-55이고, y는 30-40이며, p는 1-10이고, q는 10-20이며;z는 1-5이다)
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제4항에 있어서,상기 유기 용매는 클로로폼, 디클로로메탄, 아세톤, 피리딘, 테트라하이드로퓨란, 클로로벤젠 및 디클로로벤젠으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 불소계 고분자 조성물
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하기 화학식 1로 표시되는 불소계 고분자를 포함하는 불소계 고분자막:[화학식 1](상기 화학식 1에서,Rf는 C1-20의 불소화된 직쇄 알킬 또는 C3-20의 불소화된 분지쇄 알킬이고;R1-4는 각각 독립적으로 수소(H), 메틸(CH3) 또는 할로겐기이고;R5는 C1-20의 직쇄 알킬 또는 C3-20의 분지쇄 알킬이고;x+y+p+q=100인 중량비 기준으로, x는 45-55이고, y는 30-40이며, p는 1-10이고, q는 10-20이며;z는 1-5이다)
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제1항의 불소계 고분자를 유기 용매에 용해시켜 고분자 용액을 준비하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1의 고분자 용액을 기판 위에 도포하고 건조하여 고분자막을 형성하는 단계(단계 2);를 포함하는 불소계 고분자막의 제조방법
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제6항의 불소계 고분자막을 포함하는 광학 필름
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제8항에 있어서,상기 광학 필름은 비불소계 고분자막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름
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하기 화학식 1로 표시되는 불소계 고분자; 유기 용매; 및 안료, 염료 및 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상;을 포함하는 도료 조성물:[화학식 1](상기 화학식 1에서,Rf는 C1-20의 불소화된 직쇄 알킬 또는 C3-20의 불소화된 분지쇄 알킬이고;R1-4는 각각 독립적으로 수소(H), 메틸(CH3) 또는 할로겐기이고;R5는 C1-20의 직쇄 알킬 또는 C3-20의 분지쇄 알킬이고;x+y+p+q=100인 중량비 기준으로, x는 45-55이고, y는 30-40이며, p는 1-10이고, q는 10-20이며;z는 1-5이다)
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제1항의 불소계 고분자를 안료, 염료 및 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과 혼합하고, 이를 유기 용매에 용해시키는 단계;를 포함하는 도료 조성물의 제조방법
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