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연성 기판;상기 연성 기판 일면에 중공형 과립상의 가스 감응 산화물이 증착되어 형성된 가스 감지층; 및상기 가스 감지층의 일면에 형성된 감지 전극;을 포함하고,상기 가스 감지층은 가스 감응 산화물 과립을 상온에서 진공 분사하여 형성되고, 상기 가스 감지층은 WO3-δ의 결정구조를 가지는, 연성 가스센서
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제1항에 있어서,상기 가스 감지층의 결정립의 크기는 5 ~ 500 nm인, 연성 가스센서
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제1항에 있어서, 상기 가스 감지층의 두께는 100 nm ~ 5 ㎛인, 연성 가스센서
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제1항에 있어서,상기 감지 전극은 IDEs(Interdigitated electrodes)인, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 연성 기판은 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐클로라이드(PVC), 아크릴로니트릴 부타디엔스티렌(ABS), 아세탈(POM), 리퀴드 크리스털린 폴리머(LCP), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 나일론6,6(PA), 에폭시, 페놀, 폴리카보네이트(PC), 폴리에스테르, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리이미드(PI), 폴리페닐렌옥사이드(PPO), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리스티렌(PS), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리설폰(PSO), 폴리에테르설폰(PES), 폴리아미드이미드(PAI), 실리콘 폴리머, 및 폴리디메틸실록산(PDMS)에서 선택되는 1종 이상으로 형성되는, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 연성 기판은 금속 호일의 일면에 절연물질이 도포 또는 접착된 형태로 형성되는, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, NOX 가스를 감지하는 데 사용되는, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 응답속도가 45(s) 이하인, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 회복 속도가 55(s) 이하인, 연성 가스센서
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제1항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 동작 가능한 최저 곡률 반경이 8 mm 이하인, 연성 가스센서
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중공형 과립상의 가스 감응 산화물을 준비하는 단계;상기 가스 감응 산화물 과립을 상온에서 진공 분사하여 연성 기판의 일면에 증착하여 가스 감지층을 형성하는 단계; 및상기 가스 감지층의 일면에 금속을 증착하여 감지 전극을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 가스 감응 산화물을 준비하는 단계는 암모늄 텅스텐 옥사이드 하이드레이트(ATOH) 분말을 400 ~ 700℃에서 30분 ~ 7시간 동안 열처리하여 중공형 과립상의 WO3 을 제조하는 단계를 포함하는, 연성 가스센서의 제조방법
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제13항에 있어서, 모든 단계가 상기 연성 기판의 Tg 이하의 온도에서 이루어지는, 연성 가스센서의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 가스 감응 산화물을 준비하는 단계에서, 과립의 크기는 5 ~ 500 ㎛인, 연성 가스센서의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 가스 감지층을 형성하는 단계에서 과립은 노즐 슬릿(slit) 면적 1㎟당 0
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제13항에 있어서,상기 가스 감지층을 형성하는 단계에서 상기 가스 감지층은 100 nm ~ 5 ㎛의 두께로 형성되는, 연성 가스센서의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 감지 전극을 형성하는 단계는, 전극패턴이 형성된 마스크를 준비하는 단계; 및 상기 마스크를 이용하여 상기 전극 패턴이 전사되도록 스퍼터링, 열기상증착법 및 전자빔 기상증착법 중 어느 하나를 선택하여 상기 가스 감지층의 일면에 금속을 증착하는 단계;를 포함하는, 연성 가스센서의 제조방법
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