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상면 및 하면에 텍스처 구조를 형성한 제1도전형 결정질 실리콘 기판을 제공하는 단계;상기 제1도전형 결정질 실리콘 기판에 질산, 염산, 황산, 인산 또는 불산을 이용한 화학적 산화 처리를 1분 내지 5분 동안 수행하여 상기 제1도전형 결정질 실리콘 기판의 상면 및 하면에 각각에 화학적 산화막을 형성하는 단계;상기 제1도전형 결정질 실리콘 기판 상면 및 하면의 화학적 산화막에 각각 100℃ 내지 400 ℃의 온도 분위기에서 1차 열처리를 수행하면서 원자층 증착법으로 Al2O3를 증착하여 텍스처 구조의 상부 터널 산화막 및 하부 터널 산화막을 형성하는 단계;150℃ 내지 600 ℃의 온도 분위기에서 10분 내지 30분간 상기 상부 터널 산화막 및 상기 하부 터널 산화막에 2차 열처리를 수행하여 상기 상부 터널 산화막 및 상기 하부 터널 산화막의 표면 커버리지를 증가시키는 단계;상기 상부 터널 산화막에 텍스처 구조의 상부 진성 비정질 실리콘 박막을 형성하고, 상기 하부 터널 산화막에 텍스처 구조의 하부 진성 비정질 실리콘 박막을 형성하는 단계;상기 상부 진성 비정질 실리콘 박막에 텍스처 구조의 제2도전형 비정질 실리콘 박막을 형성하고, 상기 하부 진성 비정질 실리콘 박막에 텍스처 구조의 제1도전형 비정질 실리콘 박막을 형성하는 단계; 및상기 제2도전형 비정질 실리콘 박막에 텍스처 구조의 상부 투명 전극을 형성하고, 상기 제1도전형 비정질 실리콘 박막에 텍스처 구조의 하부 투명 전극을 형성하는 단계를 포함하는 이종 접합 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 상부 터널 산화막 및 상기 하부 터널 산화막을 형성하는 단계에서,레이어 바이 레이어(layer-by-layer)로 증착시켜 상기 상부 터널 산화막 및 상기 하부 터널 산화막의 표면 커버리지를 증가시키는 이종 접합 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 상부 터널 산화막 및 상기 하부 터널 산화막을 0
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제 1 항에 있어서,상기 제1도전형은 n형 불순물을 포함하고, 상기 제2도전형은 p형 불순물을 포함는 이종 접합 실리콘 태양 전지의 제조 방법
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