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베이스 입자(base particle);상기 베이스 입자를 완전히 둘러싸고, 복수의 갭(gap)이 형성된 표면을 갖는 금속층(metal layer); 및상기 금속층 상에 제공되고, 상기 금속층의 상기 복수의 갭 내에 제공되는 표지자를 포함하되, 상기 갭은 상기 금속층으로 구성된 바닥면 및 측면을 포함하고, 상기 표지자는 상기 갭의 상기 바닥면 및 상기 측면 상에 제공되는 것을 포함하 는 복합 입자
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제1 항에 있어서, 상기 금속층은, 상기 베이스 입자의 표면으로부터 돌출된 복수의 볼록부들을 포함하고, 상기 복수의 갭은, 상기 복수의 볼록부들 사이에서 상기 베이스 입자의 표면을 향하여 연장되는 것을 포함하는 복합 입자
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제1 항에 있어서, 상기 표지자는, 라만 표지자를 포함하는 복합 입자
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제1 항에 있어서,상기 금속층은 은을 포함하는 복합 입자
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 입자는 실리카 입자를 포함하는 복합 입자
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제1 항에 있어서, 상기 복수의 갭은, 상기 베이스 입자의 표면에 인접할수록, 폭이 좁아지는 것을 포함하는 복합 입자
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금속을 포함하는 전구체 용액, 및 베이스 입자(base particle)를 준비하는 단계;상기 전구체 용액, 및 상기 베이스 입자를 혼합하여, 혼합 용액을 제조하는 단계;상기 혼합 용액에 환원제를 첨가하는 단계; 및상기 환원제가 첨가된 상기 혼합 용액에 표지자의 소스를 첨가하고 교반하여, 복합 입자를 제조하는 단계를 포함하되,상기 복합 입자는, 상기 베이스 입자;상기 베이스 입자를 둘러싸고, 상기 금속을 포함하는 금속층; 및 상기 금속층 상에 제공되는 상기 표지자를 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제7 항에 있어서, 상기 금속층은, 상기 베이스 입자의 표면으로부터 돌출된 복수의 볼록부들을 포함하고, 상기 복수의 볼록부들 사이에 복수의 갭이 제공되고, 상기 표지자는 상기 복수의 갭 내에 제공되는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제8 항에 있어서, 상기 혼합 용액을 제조하는 단계는, 상기 전구체 용액 및 상기 베이스 입자와 분산 안정제를 혼합하는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제9 항에 있어서, 상기 분산 안정제의 함량에 따라서, 상기 복수의 볼록부의 크기 및 개수가 제어되는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제10 항에 있어서, 상기 분산 안정제의 함량이 증가하는 경우, 상기 복수의 볼록부의 크기가 감소하고, 상기 복수의 볼록부의 개수가 증가하여, 상기 복수의 블록부들 사이에 제공되는 상기 복수의 갭의 개수가 증가되는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제9 항에 있어서, 상기 분산 안정제의 함량에 따라서, 상기 복수의 갭의 개수가 제어되는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제9 항에 있어서, 상기 분산 안정제는 PVP를 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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제7 항에 있어서, 상기 베이스 입자는, 상기 베이스 입자의 표면에 제공되고, 상기 금속과 반응하는 기능기를 갖는 것을 포함하는 복합 입자의 제조 방법
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