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지지대와 상기 지지대 상에 형성되고 제1시료를 검출하기 위한 제1생체 결합물질이 고정화된 시료검출층이 형성된 적어도 하나 이상의 미세유로를 포함하는 미세유로 구조체;상기 제1시료를 포함하는 완충용액을 상기 미세유로에 주입하는 시료주입부;상기 미세유로 구조체의 상부에 배치되고, 제1굴절률을 갖는 입사프리즘 및 제2굴절률을 갖는 반사프리즘으로 구성되는 이중프리즘유닛; 편광(polairzed light)을 발생시키는 편광발생부; 및제2반사광의 편광변화를 검출하는 편광검출부;를 포함하여, 상기 편광은 상기 입사프리즘을 투과하여 상기 입사프리즘과 상기 완충용액이 접하는 입사프리즘-완충용액 경계면에 입사되는 입사광을 형성하고, 상기 입사광의 일부는 상기 입사프리즘-완충용액 경계면에서 반사되어 상기 입사프리즘 또는 상기 반사프리즘을 투과하는 제1반사광을 형성하고, 상기 입사광의 또 다른 일부는 상기 완충용액을 투과하여 p-편광파 무반사 조건을 만족하는 입사각으로 상기 시료검출층에 입사되는 제1투과광을 형성하여,상기 제1투과광은 상기 시료검출층에서 반사되어, 상기 완충용액과 상기 반사프리즘이 접하는 반사프리즘-완충용액 경계면 및 상기 반사프리즘을 투과하는 제2반사광을 형성하되, 상기 이중 프리즘 유닛의 외부로 방출된 상기 제1반사광과 상기 제2반사광의 진행방향이 서로 평행하지 않고,상기 시료 검출층은 기판, 상기 기판의 상부에 형성된 유전체 박막, 및상기 유전체 박막의 상부에 형성된 흡착층을 포함하고, 상기 흡착층에는 상기 제 1 시료를 검출하기 위한 제 1 생체 결합물질이 고정화되며,상기 입사프리즘-완충용액 경계면 및 상기 반사프리즘-완충용액 경계면과 수평방향으로 평행한 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1굴절률과 상기 제2굴절률이 서로 다른 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서,상기 입사프리즘과 상기 반사프리즘이 접하는 면에 거울 반사 코팅한 것을 특징으로하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서,상기 프리즘을 통해 입사하는 상기 입사광의 크기를 조절하기 위한 광학장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 4 항에 있어서,상기 광학장치는 결상장치를 더 포함하여,상기 결상장치는, 상기 입사프리즘-완충용액 경계면상에 형성되는 상기 입사광의 빕 스폿(beam spot)의 형태를 제어하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 5 항에 있어서,상기 결상장치는렌즈, 렌즈시스템, 및 반사경 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 제2반사광은 상기 유전체 박막에서 반사되는 광을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유전체 박막은 투명한 반도체 산화막 및 유리막 중 어느 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서, 상기 유전체 박막은 두께가 0 초과 ~ 10 mm인 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서,상기 편광검출부는,상기 제2반사광의 편광변화에 기초하여 상기 흡착층에 흡착된 상기 제1시료의 두께 또는 농도를 산출하는 농도산출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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제 1 항에 있어서, 상기 미세유로 구조체는 제2시료를 검출하기 위한 제2생체 결합물질이 고정화된 제2시료검출층이 형성된 제2미세유로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정장치
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시료주입부가 제1시료를 검출하기 위한 제1생체 결합물질이 고정화된 시료검출층이 형성된 적어도 하나의 미세유로를 포함하는 미세유로 구조체에 완충용액을 주입하는 제1단계;상기 완충용액에 포함된 제1시료가 상기 시료검출층의 제1항체에 흡착하는 제2단계;편광발생부가 편광을 발생시키는 제3단계;상기 편광이 상기 입사프리즘을 투과하여 상기 입사프리즘과 상기 완충용액이 접하는 입사프리즘-완충용액 경계면에 입사되는 입사광을 형성하는 제4단계;상기 입사광의 일부는 상기 입사프리즘-완충용액 경계면에서 반사되어 상기 입사프리즘 또는 상기 반사프리즘을 투과하는 제1반사광을 형성하고, 상기 입사광의 또 다른 일부는 상기 완충용액을 투과하여 p-편광파 무반사 조건을 만족하는 입사각으로 상기 시료검출층에 입사되는 제1투과광을 형성하는 제5단계;상기 제1투과광은 상기 시료검출층에서 반사되어, 상기 완충용액과 상기 반사프리즘이 접하는 반사프리즘-완충용액 경계면 및 상기 반사프리즘을 투과하는 제2반사광을 형성하는 제6단계;편광 검출부가 상기 제2반사광의 편광 변화를 검출하는 제7단계; 및상기 제2반사광의 편광변화에 기초하여 상기 시료검출층에 흡착된 시료의 농도를 검출하는 제8단계;를 포함하되,상기 이중 프리즘 유닛의 외부로 방출된 상기 제1반사광과 상기 제2반사광의 진행방향이 서로 평행하지 않고,상기 시료 검출층은 기판, 상기 기판의 상부에 형성된 유전체 박막, 및상기 유전체 박막의 상부에 형성된 흡착층을 포함하고, 상기 흡착층에는 상기 제 1 시료를 검출하기 위한 제 1 생체 결합물질이 고정화되며,상기 입사프리즘-완충용액 경계면 및 상기 반사프리즘-완충용액 경계면과 수평방향으로 평행한 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정방법
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제 13 항에 있어서,상기 입사프리즘의 굴절률과 상기 반사프리즘의 굴절률이 서로 다른 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정방법
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제 13 항에 있어서,상기 입사프리즘과 상기 반사프리즘이 접하는 면에 거울 반사 코팅한 것을 특징으로하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정방법
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제 13 항에 있어서,상기 제3단계와 상기 제4단계사이에, 결상장치를 더 포함하는 광학장치를 통해 상기 프리즘을 통해 입사하는 상기 입사광의 크기를 조절하는 제3-1단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정방법
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제 16 항에 있어서,상기 광학장치는 렌즈, 렌즈시스템, 및 반사경 중 어느 하나를 포함하는 반사장치를 더 포함하고, 상기 제3-1단계는 상기 결상장치가 상기 입사프리즘-완충용액 경계면상에 형성되는 상기 입사광의 빔 스폿(Beam Spot)의 형태를 제어하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 프리즘 실리콘 기반 액침 미세유로 측정방법
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