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전자기파 흡수체에 대해 요구되는 전자기 성능에 따라 정의된 설계 변수 및 제조 변수를 반영하여 제작된 시편에 대해, 상기 시편의 전영역을 구성하는 복수의 스캐닝 영역별로 전자기 성능을 측정하는 스캐닝 자유공간 측정기와,상기 스캐닝 자유공간 측정기에 의한 상기 전자기 성능의 측정을 제어하고, 상기 스캐닝 자유공간 측정기에 의해 측정된 상기 시편의 전자기 성능을 분석하여 상기 시편의 결함 위치를 확인하며, 상기 결함 위치에 대응하는 설계 변수 및 제조 변수가 정의된 데이터베이스를 이용하여 상기 확인된 결함 위치에 대하여 상기 전자기파 흡수체의 설계 변수 및 제조 변수를 재정의하는 제어기를 포함하는전자기파 흡수체 설계 보조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 스캐닝 자유공간 측정기는,상기 시편이 고정되는 지그와,상기 제어기의 제어에 따라, 상기 지그를 상하방향 또는 좌우방향으로 운동시켜 상기 시편의 위치를 변경하는 2축 스테이지와,상기 제어기의 제어에 따라, 상기 시편으로 전자기파를 송출한 후 상기 시편에 의해 반사되는 전자기파를 수신하는 집중형 혼 안테나를 포함하는전자기파 흡수체 설계 보조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 지그는,상기 시편을 사이에 두고 압착하여 고정하기 위한 전방 고정판과 후방 고정판을 포함하며,상기 전방 고정판 및 상기 후방 고정판에는 상기 시편을 상기 집중형 혼 안테나에 대해 가림 없이 노출시키는 노출구가 형성되어 있는전자기파 흡수체 설계 보조 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제어기는, 상기 복수의 스캐닝 영역 중 서로 인접한 스캐닝 영역들은 상기 집중형 혼 안테나에서 송출되는 전자기파의 집중 면적이 절반 이상 중첩되도록 상기 2축 스테이지를 제어하는전자기파 흡수체 설계 보조 장치
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전자기파 흡수체 설계 보조 장치에서 수행되는 설계 보조 방법으로서,상기 전자기파 흡수체에 대해 요구되는 전자기 성능에 따라 정의된 설계 변수 및 제조 변수가 반영되어 제작된 시편의 전영역을 구성하는 복수의 스캐닝 영역에 대해 상기 복수의 스캐닝 영역별로 전자기 성능을 측정하는 단계와,측정된 상기 시편의 전자기 성능을 분석하여 상기 시편의 결함 위치를 확인하는 단계와,상기 결함 위치에 대응하는 설계 변수 및 제조 변수가 정의된 데이터베이스를 이용하여 상기 확인된 결함 위치에 대하여 상기 전자기파 흡수체의 설계 변수 및 제조 변수를 재정의하는 단계를 포함하는전자기파 흡수체 설계 보조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 복수의 스캐닝 영역 중 서로 인접한 스캐닝 영역들은 상기 전자기 성능을 측정하기 위한 전자기파의 집중 면적이 절반 이상 중첩되는전자기파 흡수체 설계 보조 방법
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