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펄스레이저(1) 빔의 진행 경로를 조절하는 거울(2); 상기 펄스레이저(1) 빔을 소정의 시료(4)의 표면에 집속시키는 집속렌즈(3); 상기 시료(4)를 상부에 배치시키고 상기 시료(4)를 가로, 세로, 높이 방향으로 이송이 가능하도록 조절하는 시료스테이지(5); 상기 시료(4) 표면에서 발생한 플라즈마에서 방출되는 빛을 수광하는 수광렌즈(6, 7); 상기 수광렌즈(6, 7)로부터 빛을 수광하는 광섬유(8); 상기 광섬유로부터 상기 빛을 수광하여 스펙트럼을 기록하는 분광기(9); 연속으로 빔을 발사하는 연속레이저(10); 상기 연속레이저(10)의 경로를 조절하는 거울(11); 및 상기 광섬유(8)의 단면을 측정하고, 상기 광섬유(8)의 코어와 결상된 연속레이저(10)의 레이저빔의 이미지 사이의 차이를 관측하는 디지털 현미경(12);을 포함하는 레이저유도 플라즈마 분광 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법에 있어서, 제1 시료(4-1)를 시료스테이지 상에 배치되도록 하는 단계; 상기 펄스레이저(1)의 빔, 광섬유(8)의 코어 및 연속레이저(10)의 레이저 빔이 디지털 현미경(12)으로 관측하는 광섬유 단면의 영상에서 서로 겹치도록 정렬시키는 정렬단계; 및상기 분광기(9)는 상기 소정의 시료의 표면에서 발생하는 플라즈마에서 방출되는 빛을 광섬유(8)를 통해 수광하고 분석하여 시료 표면에 대하여 LIBS 분석을 수행하는 분석단계;를 포함하고,상기 제1 시료는 표면이 반듯하고 평평한 형태이며 불투명한 물질로 구성되는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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제2항에 있어서, 상기 정렬단계는, 상기 제1 시료(4-1)의 표면이 집속렌즈(3)의 초점 거리에 해당하는 지점에 위치하도록 상기 시료스테이지(5)의 높이를 조절하는 단계; 상기 연속레이저(10)를 켜고 상기 연속레이저(10)의 이미지가 수광렌즈(6, 7)을 통해서 광섬유(8)의 단면에 결상되도록 하는 단계; 광섬유(8)의 단면을 디지털 현미경(12)으로 보면서 광섬유(8)의 코어와 결상된 연속레이저(10) 빔 이미지 사이의 차이를 확인하는 확인단계; 상기 확인단계에서 측정된 광섬유(8)의 코어와 연속레이저(10)의 빔 이미지 사이의 차이만큼 상기 광섬유(8)의 위치를 수광렌즈(6, 7)의 광축에 수직한 면에서 조절하여 광섬유(8)의 코어와 결상된 연속레이저(10) 빔의 이미지가 겹치도록 하는 일치단계; 상기 펄스레이저(1)를 켜서 상기 제1 시료(4-1)의 표면에 플라즈마를 생성하는 단계; 및상기 플라즈마의 이미지가 상기 광섬유(8)의 코어 상에 연소레이저(10) 빔의 이미지와 겹치도록 상기 거울(2)을 조정하는 조정단계;를 포함하는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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제4항에 있어서, 상기 조정단계 이후, 상기 시료 표면의 높이에 대한 정보를 디지털 현미경을 통해 관측되는 광섬유 단면에 대한 영상자료 분석을 통해서 얻는 단계; 및시료 표면이 최적의 높이에서 벗어난 경우, 상기 시료 표면의 높이에 대한 정보를 시료 스테이지의 높이를 조절하는 장치에 입력시켜 상기 시료스테이지(5)가 높이를 다시 최적화시키는 단계;를 더 포함하여 구성되는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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제5항에 있어서, 상기 시료스테이지(5)를 움직면서 펄스레이저(1)를 시료 표면(4)에 집속하여 시료 표면의 여러 지점에서 플라즈마 방출 스펙트럼을 획득함과 동시에 광섬유(8) 단면을 관측하는 디지털 현미경(12) 영상에 대한 분석을 통해 시료 표면의 높이를 정량화하고 그 값을 실시간으로 시료스테이지(5)를 구동하는 시스템에 전송하여 필요한 경우 실시간으로 시료스테이지(5)의 높이를 조절하여 시료 표면이 항상 최적의 위치 또는 원하는 위치에 오도록 조절하는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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펄스레이저(1) 빔의 진행 경로를 조절하는 거울(2); 상기 펄스레이저(1) 빔을 소정의 시료(4)의 표면에 집속시키는 집속렌즈(3); 상기 시료(4)를 상부에 배치시키고 상기 시료(4)를 가로, 세로, 높이 방향으로 이송이 가능하도록 조절하는 시료스테이지(5); 상기 시료(4) 표면에서 발생한 플라즈마에서 방출되는 빛을 수광하는 수광렌즈(6, 7); 상기 수광렌즈(6, 7)로부터 빛을 수광하는 광섬유(8); 상기 광섬유로부터 상기 빛을 수광하여 스펙트럼을 기록하는 분광기(9); 연속으로 빔을 발사하는 연속레이저(10); 상기 연속레이저(10)의 경로를 조절하는 거울(11); 및 상기 광섬유(8)의 단면을 측정하고, 상기 광섬유(8)의 코어와 결상된 연속레이저(10)의 레이저빔의 이미지 사이의 차이를 관측하는 디지털 현미경(12);을 포함하는 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법에 있어서, 제2 시료(4-2)를 시료스테이지 상에 배치되도록 하는 단계; 상기 제2 시료(4-2)의 표면에 LIBS 분석할 다수의 지점을 결정하는 단계; 상기 결정된 제2 시료(4-2)의 소정의 일 지점의 표면에 대하여 연속레이저(1)의 빔 이미지가 광섬유(8) 코어와 겹치도록 상기 시료스테이지(5)의 높이를 조절하는 정렬단계; 상기 분광기(9)는 상기 소정의 일 지점의 표면에서 발생하는 플라즈마에서 방출되는 빔을 광섬유(8)를 통해 받아 분석하여 상기 소정의 시료 표면에 대하여 LIBS 분석을 수행하는 분석단계; 및상기 분석한 소정의 시료에 대한 상기 소정의 일 지점의 표면을 제외한 나머지 다수의 지점에 대하여 상기 정렬단계 및 상기 분석단계를 반복하여 수행하는 단계;를 포함하는 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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제7항에 있어서, 상기 제2 시료는, 울퉁불퉁하거나 좌우 또는 상하의 균형이 맞지 않고 투명한 재질의 물질로 구성되는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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제2항 및 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 공간분해능을 갖도록 렌즈를 통해서 여기된 광원을 시료 표면의 한 지점에 집속하여 신호를 얻는 형광분광분석기, 라만분광분석기 및 적외선흡수분광분석기 중 어느 하나에 적용하는 것인 LIBS 분석기에서 시료 표면 높이 조절 및 변화를 모니터링하는 방법
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