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플라스틱 기판 상에 보조막을 형성하는 단계;상기 보조막 상에 직물 기판을 배치하는 단계;상기 보조막이 형성된 플라스틱 기판과 상기 직물 기판을 열/압착하는 단계;상기 직물 기판 상에 평탄화층을 형성하는 단계; 및상기 직물 기판으로부터 플라스틱 기판 및 보조막을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 평탄화층이 형성된 직물 기판은, 상기 열/압착하는 단계에 의해 상기 직물 기판의 섬유들 사이의 굴곡에만 상기 보조막이 형성되어 상기 평탄화층의 핀홀(pin hole)이 개선되는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 보조막이 형성된 플라스틱 기판과 상기 직물 기판을 열/압착하는 단계는,60℃ 내지 100℃의 온도로 가열되고, 25분 내지 35분 동안 압착되는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 직물 기판 상에 평탄화층을 형성하는 단계는상기 평탄화층 상에 보조 평탄화층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 직물 기판은 버퍼층(buffer layer)을 더 포함할 수 있고, 상기 버퍼층은 금속 나노 와이어, 카본 나노 튜브, 그래핀, 금속 나노와이어/카본 나노 튜브 및 금속 나노와이어/그래핀 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은 poly-TPD(Poly(N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)- benzidine)), 폴리 비닐 카바졸(PVK; poly-vinylcarbazole), PDY-132, 폴리3-헥실싸이오펜(P3HT; poly(3-hexylthiophene)), P3KT, PT, MEH-PPV(poly(2-methhoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-pheneylenevinylene)), MDMO-PPV(Poly(2-methoxy-5-(3',7′'-dimethyloctyloxy)-1,4-phenylenevinylene)), PFO(poly(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)), polydimethylsiloxane(PDMS), ethylene-vinyl acetate(EVA), Chlorosulfonated polyethylene(CSM), Polyether block amides(PEBA), Perfluoroelastomers(FFKM), Fluoroelastomers(FKM), Fluorosilicone Rubber(FVMQ), Silicone rubber(SI), Polyacrylic rubber(ACM), Epichlorohydrin rubber(ECO), ethylene propylene rubber(EPM), Hydrogenated Nitrile Rubbers(HNBR) 또는 Styrene-butadiene Rubber(SBR) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 보조 평탄화층은 산화물 또는 금속 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 직물 기판은 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리에틸렌 테페프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리이미드(PI; polyamide), 폴리염화비닐 (PVC; polyvinyl chloride), 폴리비닐피롤리돈(PVP; polyvinylpyrrolidone), 폴리에틸렌(PE; polyethylene), 폴리아크릴(polyacrylic), 폴리에스테르(PS; polyester), 폴리우레탄(PU; polyurethane), 실리콘 옥싸이드(SiO2; silicon oxide), 천(cotton), 린넨(linen), 울(wool) 또는 실크(silk) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 플라스틱 기판은 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 테페프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리이미드(PI; polyamide) 및 폴리에스테르(PS; polyester) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 보조막은 폴리우레탄(PU; polyurethane) 또는 폴리메타크릴산 메틸(PMMA; Poly(methyl methacrylate)) 중 적어도 하나의 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 평탄화층은 블레이드 코팅(blade coating), 바코팅(bar coating), 스프레이 코팅(spray coating), 스핀 코팅(spin coating), 브러쉬 코팅(brush coating), 딥 코팅(dip coating) 및 그라비아 코팅(gravure coating) 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 평탄화층을 포함하는 직물 기판의 제조 방법
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