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기 설정된 적어도 하나의 물질을 포함하는 자성 입자; 및상기 자성 입자를 포함하는 착색 염료;를 포함하고,상기 자성 입자는,Co, Fe 또는 Ni의 단물질, 상기 단물질 성분을 포함하는 합금 및 상기 단물질 성분을 포함하는 합금산화물 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 제1 물질, 및상기 제1 물질의 표면을 질소로 산화시키는 방식으로 형성된 제2 물질을 포함하며,상기 제1 물질은 C, N, B, Au, Pt, Pd, Os, Ir, Ta, Rh, Ru, W 또는 Ge 중 적어도 하나의 물질을 불순물로 포함하고,상기 제2 물질은 Si3N4를 포함하는 질화막으로 형성된, 보안 인쇄 카트리지
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제1항에 있어서,상기 자성 입자는,코어 쉘 구조로 형성된, 보안 인쇄 카트리지
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제1항에 있어서,상기 자성 입자는,구형, 타원형, 원통형 및 복수 개의 입자가 결합된 형태로 형성된, 보안 인쇄 카트리지
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제5항에 있어서,상기 자성 입자의 직경은,1nm 내지 100 um 이내인, 보안 인쇄 카트리지
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기 설정된 적어도 하나의 물질을 포함하는 자성 입자; 및전체 영역에 상기 자성 입자가 분포되어 포함된 용지;를 포함하고,상기 자성 입자는,Co, Fe 또는 Ni의 단물질, 상기 단물질 성분을 포함하는 합금 및 상기 단물질 성분을 포함하는 합금산화물 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 제1 물질, 및상기 제1 물질의 표면을 질소로 산화시키는 방식으로 형성된 제2 물질을 포함하며,상기 제1 물질은 C, N, B, Au, Pt, Pd, Os, Ir, Ta, Rh, Ru, W 또는 Ge 중 적어도 하나의 물질을 불순물로 포함하고,상기 제2 물질은 Si3N4를 포함하는 질화막으로 형성된, 보안 용지
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Co, Fe 또는 Ni의 단물질, 상기 단물질 성분을 포함하는 합금 및 상기 단물질 성분을 포함하는 합금산화물 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 제1 물질을 합성하는 단계;상기 제1 물질에 C, N, B, Au, Pt, Pd, Os, Ir, Ta, Rh, Ru, W 또는 Ge 중 적어도 하나의 물질을 불순물로 삽입하는 단계;상기 제1 물질의 표면을 질소로 산화시키는 방식으로 제2 물질을 코팅하여 자성 입자를 생성하는 단계; 및상기 생성된 자성 입자를 착색 염료와 혼합하는 단계;를 포함하고,상기 제2 물질은 Si3N4를 포함하는 질화막으로 형성된, 보안 인쇄 카트리지 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 생성된 자성 입자를 열처리하는 단계;를 더 포함하는 보안 인쇄 카트리지 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 열처리하는 단계는,80도 내지 800도의 온도에서 수행하는, 보안 인쇄 카트리지 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 불순물을 삽입하는 단계는,도핑 또는 임플란트 방식에 의해 수행되는, 보안 인쇄 카트리지 제조 방법
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