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금속층; 및상기 금속층의 표면에 배열된 복수의 금속나노구조체들을 구비하되,상기 금속층의 금속은 300nm 내지 800nm 파장 대역에서 반사율이 30% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1항에 있어서,상기 금속층의 금속은 Pd, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Hf, Zr, Ti, In, Sn, Pb, Sb, Bi 및 이들의 합금 중에서 적어도 하나 선택된 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들의 금속은 300nm 내지 800nm 파장 대역에서 반사율이 30% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들을 상기 금속층의 금속과 동일한 금속이거나 다른 금속인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들은 돌출형 또는 함몰형인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1항에 있어서,상기 금속층은 모재에 코팅된 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제1항에 있어서,상기 금속층과 상기 복수의 금속나노구조체들 사이에는 버퍼층이 더 추가된 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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금속성 세라믹층; 및상기 금속성 세라믹층의 표면에 배열된 복수의 나노구조체들을 구비하되,상기 금속성 세라믹은 300nm 내지 800nm 파장 대역에서 반사율이 30% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제 8항에 있어서, 상기 금속성 세라믹은 금속성 질화물, 탄화물 및 이의 혼합 또는 화합물인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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제 9항에 있어서, 상기 금속성 세라믹은 Ti-N, Al-N, Cr-N, Zr-N, Ti-C, Cr-C, Fe-C, Co-C, Ni-C, Zr-C 및 이의 혼합 중에서 적어도 하나 선택된 것을 특징으로 하는 컬러코팅층
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금속층을 준비하는 단계; 및상기 금속층의 표면에 배열된 복수의 금속나노구조체들을 형성하는 단계를 포함하고,상기 금속층의 금속은 300nm 내지 800nm 파장 대역에서 반사율이 30% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들을 형성하는 단계는 전기도금법을 이용하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들을 형성하는 단계는 임프린트방법을 이용하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 금속층의 금속은 Pd, Ni, Co, Fe, Mn, Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Hf, Zr, Ti, In, Sn, Pb, Sb, Bi 및 이들의 합금 중에서 적어도 하나 선택된 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들의 금속은 300nm 내지 800nm 파장 대역에서 반사율이 30% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들을 상기 금속층의 금속과 동일한 금속이거나 다른 금속인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 복수의 금속나노구조체들은 돌출형 또는 함몰형인 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 금속층은 모재에 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러코팅층의 제조방법
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