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중앙 영역을 중심으로 제 1 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되는 잡음과 신호 구별을 위한 특정 파장영역 수집 구조 형태 및 배열을 갖고 특정 파장에 대한 수집을 위한 제 1 패턴 영역;상기 중앙 영역을 중심으로 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되는 특정 신호 증폭을 위한 격자구조 형태를 갖고 제 1 패턴 영역에 의해 수집된 특정 파장 신호를 증폭시켜 전계가 중앙 영역에 집적되도록 하는 제 2 패턴 영역;을 포함하고,상기 격자 구조체들의 구조 변화에 따른 유효 파장은, 으로 정의되고, 여기서, n1과 n2는 격자구조체 형성 물질의 유전 특성에 따라 결정되는 굴절률이며, λp는 플라즈마 파장(Plasma wavelength)으로 특정 광 파장(light wavelength)의 파장을 수집하기 위하여 특정 파장과의 공진을 하기 위해 간격을 으로 설정하는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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제 1 항에 있어서, 상기 격자 구조체들은,유전율이 양수인 PMMA 구조 위에 유전율이 음수인 금속을 증착하여 각기 다른 유전율을 갖는 물질 접합에 의한 메타구조의 특성으로 각각의 구조에서 플라즈모닉 효과가 일어나도록 하는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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제 1 항에 있어서, 상기 격자 구조체들은,특정 구조 사이에 나노 갭을 주어 특정 영역에 전자기장이 밀집되게 설계를 하고, 입사각의 각도를 제어하여 플라즈모닉 효과를 증대시키는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패턴 영역의 격자 구조체들은,증폭된 전계가 집적되는 중앙 영역을 중심으로 제 1 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되고 격자 구조체들 크기가 동일한 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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제 1 항에 있어서, 상기 제 2 패턴 영역의 격자 구조체들은,중앙 영역을 중심으로 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되고 중앙 영역에서 외측으로 갈수록 격자 구조체들의 크기가 축방향 길이가 증가되는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1,2 패턴 영역들을 갖는 단위 패턴 영역들이,근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 전체 패턴 영역에 일정하게 반복 형성되는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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삭제
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제 1 항에 있어서, 특정 광 파장(light wavelength)을 λ = 785nm로 설정하는 경우에는,m을 3의 정수를 주어 far-field에서 gain값을 최대로 받기 위해 축방향 구조의 길이를 1177nm로 설정하고, 1177nm 축 구조에서 electric field normal 값이 2
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제 2 항에 있어서, 격자구조체에 의한 플라즈모닉 효과는,으로 정의되고,P는 격자와 격자사이의 간격을 의미하며, θR은 입사광(incident light)의 입사각을 의미, k0는 입사광의 파수, na는 물질의 굴절률을 의미하며, εm은 물질의 유전율을 의미하는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조
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입사광을 조사하는 레이저 조사부;근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 전체 패턴 영역에 격자 구조체들을 갖는 단위 패턴 영역들이 반복되고, 각각의 단위 패턴 영역들은 잡음과 신호 구별을 위한 특정 파장영역 수집 구조 형태 및 배열을 갖고 특정 파장에 대한 수집을 위한 제 1 패턴 영역과, 제 1 패턴 영역에 의해 수집된 특정 파장 신호를 증폭시켜 전계가 중앙 영역에 집적되도록 하는 제 2 패턴 영역을 포함하고, 레이저 조사부에서 조사된 입사광을 특정 신호 구별 및 증폭을 하는 신호 구별 및 증폭 패턴부;신호 구별 및 증폭 패턴부에서 신호 구별 및 증폭된 신호를 검출하는 검출 수단;을 포함하고,상기 격자 구조체들의 구조 변화에 따른 유효 파장은, 으로 정의되고, 여기서, n1과 n2는 격자구조체 형성 물질의 유전 특성에 따라 결정되는 굴절률이며, λp는 플라즈마 파장(Plasma wavelength)으로 특정 광 파장(light wavelength)의 파장을 수집하기 위하여 특정 파장과의 공진을 하기 위해 간격을 으로 설정하는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조를 갖는 바이오 이미징 시스템
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제 10 항에 있어서, 상기 신호 구별 및 증폭 패턴부의 격자 구조체들은,유전율이 양수인 PMMA 구조 위에 유전율이 음수인 금속을 증착하여 각기 다른 유전율을 갖는 물질 접합에 의한 메타구조의 특성으로 각각의 구조에서 플라즈모닉 효과가 일어나도록 하는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조를 갖는 바이오 이미징 시스템
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제 11 항에 있어서, 상기 격자 구조체들은,특정 구조 사이에 나노 갭을 주어 특정 영역에 전자기장이 밀집되게 설계를 하고, 입사각의 각도를 제어하여 플라즈모닉 효과를 증대시키는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조를 갖는 바이오 이미징 시스템
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제 10 항에 있어서, 상기 제 1 패턴 영역의 격자 구조체들은,증폭된 전계가 집적되는 중앙 영역을 중심으로 제 1 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되고 격자 구조체들 크기가 동일한 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조를 갖는 바이오 이미징 시스템
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제 10 항에 있어서, 상기 제 2 패턴 영역의 격자 구조체들은,중앙 영역을 중심으로 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 격자 구조체들이 일정 간격 이격되어 반복 형성되고 중앙 영역에서 외측으로 갈수록 격자 구조체들의 크기가 축방향 길이가 증가되는 것을 특징으로 하는 근적외선 특정 신호 구별 및 증폭을 위한 패턴 표면 구조를 갖는 바이오 이미징 시스템
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