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자성체에 포함된 자성 입자(magnetic particle)들의 보자력(coercive force)별 밀도 분포를 획득하는 자기적 특성 획득부와,상기 자성체를 포함하는 대상체를 소정의 탈자 프로토콜에 따라 탈자(deperming)시키는 복수 개의 과정들 중에서, 상기 복수 개의 과정 중 어느 하나의 과정에서 상기 대상체에 인가될 자기장의 최소값과 최대값을, 상기 밀도 분포로부터 산정하는 탈자 제어부를 포함하는탈자 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 소정의 탈자 프로토콜은,flash-D 탈자 프로토콜인탈자 제어 장치
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제 2 항에 있어서,상기 보자력의 최소값과 최대값 각각은,상기 flash-D 탈자 프로토콜에서 2-stage의 시작 자기장의 크기 및 종료 자기장의 크기를 나타내는탈자 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 탈자 제어부는,상기 밀도 분포에서 최대 밀도를 갖는 보자력을 중심으로 소정의 범위 내의 보자력을 갖는 자성 입자들이 상기 자성체에 포함된 전체 자성 입자들 중에서 소정 비율이 되도록, 상기 소정 범위의 보자력의 최소값과 최대값을 산정하는탈자 제어 장치
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제 4 항에 있어서,상기 비율은 50%인탈자 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 탈자 제어부는,상기 밀도 분포에서 최대 밀도에 대한 소정 비율을 곱한 밀도를 갖는 자성 입자들이 갖는 보자력의 최소값과 최대값을 산정하는탈자 제어 장치
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제 6 항에 있어서,상기 자기적 특성 획득부는,상기 최대 밀도가 소정의 기준치 이상인지 아니면 미만인지에 따라 상기 비율의 값을 달리 산정하는탈자 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 자기적 특성 획득부는,상기 자성체에 대한 히스테리시스 곡선을 획득하고, 상기 히스테리시스 곡선으로부터 상기 밀도 분포를 획득하는탈자 제어 장치
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제 8 항에 있어서,상기 자기적 특성 획득부는,상기 히스테리시스 곡선을 미분하여서 상기 밀도 분포를 획득하는탈자 제어 장치
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제 1 항에 따른 탈자 제어 장치와,상기 최소값 및 상기 최대값에 기초한 전류를 생성하는 전원 공급부와,상기 생성된 전류를 인가받아서, 상기 대상체에게 인가될 자기장을 생성하는 탈자 코일을 포함하는탈자 장치
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탈자 제어 장치에 의해 수행되는 탈자 제어 방법으로서,자성체에 포함된 자성 입자(magnetic particle)들의 보자력(coercive force)별 밀도 분포를 획득하는 단계와,상기 자성체를 포함하는 대상체를 소정의 탈자 프로토콜에 따라 탈자(deperming)시키는 과정에서 상기 대상체에 인가될 자기장의 최소값과 최대값을, 상기 밀도 분포로부터 산정하는 단계를 포함하는탈자 제어 방법
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탈자 장치에 의해 수행되는 탈자 방법으로서,자성체에 포함된 자성 입자(magnetic particle)들의 보자력(coercive force)별 밀도 분포를 획득하는 단계와,상기 자성체를 포함하는 대상체를 소정의 탈자 프로토콜에 따라 탈자(deperming)시키는 과정에서 상기 대상체에 인가될 자기장의 최소값과 최대값을, 상기 밀도 분포로부터 산정하는 단계와, 상기 최소값 및 상기 최대값에 기초한 전류를 상기 탈자 장치에 포함된 전원 공급부가 생성하는 단계와,상기 생성된 전류를 상기 탈자 장치에 포함된 탈자 코일에 인가함으로써 상기 대상체에게 자기장이 인가되도록 하는 단계를 포함하는탈자 방법
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