| 1 |
1
수소 함유 가스에 의해 수소화 처리된 활성탄 흡착제를 포함하고,상기 활성탄 흡착제에서 메소 기공은 0
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 활성탄 흡착제는, 페놀기, 카르복실기 또는 이 둘이 프리(free)하거나 또는 3 wt% 이하로 포함하는 것인, 실록산 흡착제
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 활성탄 흡착제는, 산소 프리(free)하거나 또는 3 wt% 이하로 포함하는 것인, 실록산 흡착제
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 활성탄 흡착제의 비표면적은, 900 내지 3500 (m2/g)이고,상기 활성탄 흡착제의 중량당 기공부피는, 0
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 마이크로 기공은 0
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
활성탄을 준비하는 단계; 및 상기 활성탄을 수소 함유 가스를 포함하는 분위기에서 열처리하여 수소화 처리하는 단계;를 포함하고,상기 수소화 처리하는 단계는,500 ℃ 내지 900 ℃의 온도에서 10 분 내지 10 시간 동안 열처리하고,상기 활성탄 흡착제에서 메소 기공은 0
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
삭제
|
| 11 |
11
제8항에 있어서,상기 수소화 처리하는 단계는, 수소 함유 가스를 10 내지 300 ml/min를 흘려주면서 1 내지 10 ℃/min으로 승온하는 것인, 실록산 흡착제의 제조방법
|
| 12 |
12
실록산 흡착제와 피드를 접촉시켜 피드 내의 실록산을 흡착하는 단계; 및상기 흡착된 실록산을 탈착시켜 상기 흡착제를 재생하는 단계;를 포함하고,상기 실록산은, 수소 함유 가스에 의해 수소화 처리된 것이고,상기 수소화 처리는 수소 함유 가스 분위기에서 500 ℃ 내지 900 ℃의 온도에서 10 분 내지 10 시간 동안 열처리하고,상기 흡착제를 재생하는 단계는, 실록산이 흡착된 흡착제를 250 ℃ 내지 350 ℃ 온도로 가열하여 실록산을 탈착시키고,상기 수소 함유 가스는, 수소 가스(H2)를 포함하는 것인,실록산의 제거방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 피드는, 실록산 및 100 % 이하의 상대습도를 포함하는 바이오 가스인 것인, 실록산의 제거방법
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 피드는, 25 ℃ 내지 50 ℃ 온도로 제공되어 상기 흡착제와 접촉하는 것인, 실록산의 제거방법
|
| 15 |
15
삭제
|
