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음각형태의 희생 몰드를 제작하는 단계;분말, 바인더 및 마이크로 압전 구조체에 기공을 형성하기 위한 스페이스-홀더를 혼합하여 원료를 제조하는 단계;상기 원료를 상기 희생 몰드에 사출하여 구조체 형상을 제조하는 단계;상기 희생 몰드를 제거하는 단계; 및상기 바인더 및 상기 스페이스-홀더를 제거하는 단계를 포함하고,상기 바인더 및 상기 스페이스-홀더를 제거하는 단계는,열처리 공정을 통해 상기 바인더 및 상기 스페이스-홀더를 휘발시키는 단계를 포함하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 음각형태의 희생 몰드를 제작하는 단계는,LIGA 공정에 기반하여 상기 희생 몰드를 제작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 음각형태의 희생 몰드를 제작하는 단계는,패턴이 형성된 X-ray 마스크를 통해 희생 몰드 재료의 일부분에 X-ray를 노광하는 단계; 및상기 희생 몰드 재료에서 상기 X-ray가 노광된 부분을 제거하여 메쉬(mesh)패턴이 형성된 희생 몰드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 원료를 제조하는 단계는,상기 스페이스-홀더의 역할을 하는 PMMA(polymethyl methacrylate)를 상기 바인더 및 압전 세라믹 분말과 혼합하여 상기 원료를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 희생 몰드를 제거하는 단계는,아세톤을 이용하여 상기 희생 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 구조체 형상에 대한 소결(sintering) 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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분말사출성형 기술을 이용한 마이크로 압전 구조체의 제조 방법에 있어서,LIGA 공정에 기반하여 메쉬 패턴이 형성된 음각형태의 희생 몰드를 제작하는 단계;분말, 바인더 및 마이크로 압전 구조체에 기공을 형성하기 위한 스페이스-홀더를 혼합하여 상기 희생 몰드에 사출되는 원료를 제조하는 단계;상기 원료를 상기 희생 몰드에 사출하는 단계; 및상기 희생 몰드, 상기 바인더, 및 상기 스페이스-홀더를 제거하는 단계를 포함하고,상기 희생 몰드, 상기 바인더, 및 상기 스페이스-홀더를 제거하는 단계는,열처리 공정을 통해 상기 바인더 및 상기 스페이스-홀더를 휘발시키는 단계를 포함하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 분말은 압전 세라믹 분말을 포함하고,상기 스페이스-홀더는 PMMA를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 마이크로 압전 구조체는 1-3 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 마이크로 압전 구조체의 제조 방법
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