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일측으로 반응물을 유입하여 처리 후, 다른 일측으로 배출하도록 내부통로를 형성하며 전기적으로 접지되는 접지전극:상기 접지전극의 내부에 전기적으로 절연되어 상기 접지전극의 내면과 나란하게 배치되며 구동전압이 인가되는 전압전극: 및상기 전압전극과의 사이에 방전갭을 형성하고 상기 접지전극에 연결되어 상기 내부통로로 공급되는 반응물에 플라즈마 방전을 유도하며, 상기 전압전극과 함께 상기 내부통로의 횡단면적을 설정된 범위 이하로 차지하는 점화부재를 포함하며,상기 점화부재는상기 내부통로의 횡단면적 감소를 최소화하기 위하여,상기 접지전극에서 상기 전압전극을 향하여 볼록한 고리로 형성되는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 점화부재는상기 전압전극의 길이 방향에 대하여 양측에서 최대 거리를 유지하고,상기 길이 방향의 양측 사이의 설정된 위치에서 최소 간격의 상기 방전갭을 형성하는 플라즈마 발생장치
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제2항에 있어서,상기 고리는 곡선으로 형성되는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 전압전극은상기 접지전극의 중심에 배치되고,상기 반응물을 유입하는 유입구는상기 접지전극의 내면에 원주 방향의 접선 방향으로 연결되는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 접지전극은 원통관으로 형성되고,상기 전압전극은 상기 원통관의 중심에 배치되고 환봉으로 형성되는 플라즈마 발생장치
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제5항에 있어서,상기 점화부재는상기 환봉의 길이 방향에 대하여 양측에서 최대 거리를 유지하고,상기 길이 방향의 양측 사이에서 설정된 위치로 가면서 점진적으로 감소되며,상기 설정된 위치에서 최소 간격의 상기 방전갭을 형성하는 플라즈마 발생장치
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제6항에 있어서,상기 점화부재는상기 내부통로의 횡단면적 감소를 최소화 하기 위하여,상기 원통관에서 상기 환봉을 향하여 볼록한 곡선의 고리로 형성되는 플라즈마 발생장치
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제5항에 있어서,상기 환봉은상기 원통관의 중심에 배치되고,상기 반응물을 유입하는 유입구는상기 원통관의 내면에 원주 방향의 접선 방향으로 연결되는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 접지전극은길이 방향 일측에서 개방되고 다른 일측에서 밀폐부재로 폐쇄되며,상기 전압전극은상기 밀폐부재에 전기 절연부재를 개재하여 관통 설치되는플라즈마 발생장치
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제9항에 있어서,상기 전기 절연부재의 외측에서 상기 전압전극에 연결되어, 상기 전압전극을 길이 방향으로 이동시키는 액츄에이터를 더 포함하는 플라즈마 발생장치
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제10항에 있어서,상기 밀폐부재는상기 전기 절연부재의 외측에 구비되어 냉각수를 순환시키는 냉각 유로를 더 포함하는 플라즈마 발생장치
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내부통로를 형성하고 처리 방향으로 신장 형성되는 접지전극:상기 내부통로에 상기 처리 방향으로 이격 배치되는 복수의 전압전극들: 및복수의 전압전극들 각각과 상기 접지전극의 마주하는 사이에 방전갭들을 각각 형성하여, 상기 접지전극에 연결되어 상기 내부통로로 공급되는 반응물에 플라즈마 방전을 유도하며, 상기 전압전극들과 함께 상기 내부통로의 횡단면적을 설정된 범위 이하로 차지하는 복수의 점화부재들을 포함하며,상기 복수의 점화부재들은상기 내부통로의 횡단면적 감소를 최소화하기 위하여,상기 복수의 접지전극들에서 상기 전압전극을 향하여 각각 볼록한 고리로 형성되는 플라즈마 발생장치
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제12항에 있어서,반응물을 상기 전압전극들 각 측으로 유입하도록 반응물을 각각 유입하는 복수의 유입구들은상기 전압전극들에 대응하도록 상기 접지전극에 설정된 간격으로 배치 및 형성되는플라즈마 발생장치
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제13항에 있어서,상기 복수의 점화부재들은상기 복수의 전압전극들에 각각 대응하도록 상기 접지전극의 내면에 설정된 간격으로 배치 및 형성되는플라즈마 발생장치
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제12항에 있어서,반응물을 유입하여 상기 전압전극들을 따라 순차적으로 경유시키도록 반응물을 유입하는 유입구는상기 전압전극들 중 일측 전압전극에 대응하여 하나로 형성되는플라즈마 발생장치
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