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기판 상에 잉크를 토출하여 전극 라인을 인쇄하는 인쇄 노즐이 구비된 인쇄부; 상기 전극 라인을 열처리하는 열처리부; 및상기 인쇄부의 후단에 배치되어 상기 인쇄된 전극 라인의 선폭을 조절하는 가공부;를 포함하며,상기 가공부는,상기 인쇄된 전극 라인에 극초단 펄스의 제 1 레이저 빔을 조사하여 상기 전극 라인의 선폭을 조절하고,상기 제 1 레이저 빔은,펄스폭이 500 펨토초 이하이며, 상기 전극 라인을 따라 이동하면서 비열적(non-thermal) 공정으로 상기 전극 라인의 가장자리를 절삭하여 상기 선폭을 작게 조절하고,상기 열처리부는,상기 전극 라인에 나노초 이하 펄스의 제 2 레이저 빔을 조사하여 상기 전극 라인의 비저항이 감소되도록 상기 전극 라인을 어닐링하며,상기 제 2 레이저 빔은 상기 잉크가 토출되는 상기 인쇄 노즐의 중심을 관통하여 상기 전극 라인으로 조사되는, 전극 인쇄 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 레이저 빔은,상기 선폭을 0
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 레이저 빔은,상기 전극 라인의 양측 가장자리를 동시에 절삭하도록 한 쌍으로 구성되는, 전극 인쇄 장치
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제 7 항에 있어서,상기 한 쌍의 제 1 레이저 빔 사이의 거리가 조절되는, 전극 인쇄 장치
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제 1 항에 있어서,상기 인쇄부 및 상기 가공부가 지지되며, 상기 기판에 대한 상기 인쇄부 및 상기 가공부의 위치를 이동시키는 스테이지부;를 더 포함하는, 전극 인쇄 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가공부는,상기 제 1 레이저 빔을 발생시키는 레이저 빔 발생기; 및상기 제 1 레이저 빔의 광 경로 상에 배치되는 광학 소자;를 포함하는, 전극 인쇄 장치
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인쇄 노즐에서 잉크를 토출하여 기판 상에 전극 라인을 인쇄하는 인쇄 단계;상기 전극 라인을 열처리하는 어닐링 단계; 및상기 전극 라인에 극초단 펄스의 제 1 레이저 빔을 조사하여 상기 전극 라인의 선폭을 조절하는 가공 단계;를 포함하고,상기 어닐링 단계에서,상기 전극 라인을 인쇄하는 동시에 나노초 이하 펄스의 제 2 레이저 빔을 상기 전극 라인에 조사하여 상기 전극 라인의 비저항을 감소시키고, 상기 잉크가 토출되는 인쇄 노즐의 중심을 상기 제 2 레이저 빔이 관통하여 상기 전극 라인에 조사되며,상기 가공 단계에서,펄스폭이 500 펨토초 이하인 상기 제 1 레이저 빔이 상기 전극 라인을 따라 이동하면서 비열적(non-thermal) 공정으로 상기 전극 라인의 가장자리를 절삭하여 상기 선폭을 작게 조절하는, 전극 인쇄 방법
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제 11 항에 있어서,상기 가공 단계는,상기 선폭을 0
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제 11 항에 있어서,상기 가공 단계는,상기 제 1 레이저 빔을 한 쌍으로 구성하고,상기 한 쌍의 제 1 레이저 빔이 각각 상기 전극 라인의 양측 가장자리를 동시에 절삭하는, 전극 인쇄 방법
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