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일측홀 측으로 테이퍼진 통구조로서, 방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 1차 외측미러링부재;상기 1차 외측미러링부재의 내측에 배치되고 상기 일측홀 측으로 테이퍼진 뿔구조로서, 상기 발산빔 중에서 상기 일측홀을 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 샘플위치에 2차 반사하여 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하는 빔집속장치
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제2항에 있어서,상기 발산빔이 평행하게 입사되도록 상기 광원이 원거리에 위치된 경우, 상기 1차 외측미러링부재는 1차 외측포물면미러이며,상기 발산빔이 비평행하게 입사되도록 상기 광원이 근거리인 경우, 상기 1차 외측미러링부재는 상기 광원을 초점으로 하는 1차 외측타원면미러인 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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제2항에 있어서,상기 발산빔이 평행하게 입사되도록 상기 광원이 원거리에 위치된 경우, 상기 1차 내측미러링부재는 1차 내측포물면미러이며,상기 발산빔이 비평행하게 입사되도록 상기 광원이 근거리에 위치된 경우, 상기 1차 내측미러링부재는 상기 광원을 초점으로 하는 1차 내측타원면미러인 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 외측미러링부재;두 개의 1차 외측미러링부재 사이에 배치되어, 상기 발산빔 중에서 두 개의 상기 1차 외측미러링부재 사이를 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 2차 반사하여 샘플위치에 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하며,상기 2차 미러링유닛은, 상기 1차 내측미러링부재와 반대방향으로 경사지며, 상기 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사되어 포커싱된 후 퍼진 상기 제2 빔을 2차 반사하여 상기 샘플위치에 포커싱하는 두 개의 2차 외측타원면미러; 및두 개의 상기 2차 외측타원면미러 사이에 배치되고 상기 1차 외측미러링부재와 반대방향으로 경사지며, 두 개의 상기 1차 외측미러링부재에 의해 1차 반사되어 포커싱된 후 퍼진 상기 제1 빔을 2차 반사하여 상기 샘플위치에 포커싱하는 두 개의 2차 내측타원면미러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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제2항에 있어서,상기 2차 미러링유닛은,통구조로서 상기 1차 내측미러링부재와 반대방향으로 테이퍼지며, 상기 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사되어 포커싱된 후 퍼진 상기 제2 빔을 2차 반사하여 상기 샘플위치에 포커싱하는 2차 외측타원면미러; 및통구조로서 상기 2차 외측타원면미러의 내측에 배치되고 상기 1차 외측미러링부재와 반대방향으로 테이퍼지며, 상기 1차 외측미러링부재에 의해 1차 반사되어 포커싱된 후 퍼진 상기 제1 빔을 2차 반사하여 상기 샘플위치에 포커싱하는 2차 내측타원면미러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 외측미러링부재;두 개의 1차 외측미러링부재 사이에 배치되어, 상기 발산빔 중에서 두 개의 상기 1차 외측미러링부재 사이를 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 2차 반사하여 샘플위치에 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하며,두 개의 상기 1차 내측미러링부재는, 상기 제2 빔이 하나의 상기 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 후 나머지 하나의 상기 1차 내측미러링부재를 투과하도록, 사이각을 가지게 연결된 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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제2항에 있어서,상기 1차 내측미러링부재는, 상기 제2 빔이 상기 1차 내측미러링부재의 일부분에 의해 1차 반사된 후 상기 1차 내측미러링부재의 다른 부분을 투과하도록, 테이퍼각을 이루는 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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제2항에 있어서,상기 1차 내측미러링부재는 실리콘 또는 알루미늄 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 외측미러링부재;두 개의 1차 외측미러링부재 사이에 배치되어, 상기 발산빔 중에서 두 개의 상기 1차 외측미러링부재 사이를 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 2차 반사하여 샘플위치에 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하며,상기 발산빔이 평행하게 입사되도록 상기 광원이 원거리에 위치된 경우, 상기 1차 외측미러링부재는 1차 외측포물면미러이며,상기 발산빔이 비평행하게 입사되도록 상기 광원이 근거리인 경우, 상기 1차 외측미러링부재는 상기 광원을 초점으로 하는 1차 외측타원면미러인 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 외측미러링부재;두 개의 1차 외측미러링부재 사이에 배치되어, 상기 발산빔 중에서 두 개의 상기 1차 외측미러링부재 사이를 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 2차 반사하여 샘플위치에 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하며,상기 발산빔이 평행하게 입사되도록 상기 광원이 원거리에 위치된 경우, 상기 1차 내측미러링부재는 1차 내측포물면미러이며,상기 발산빔이 비평행하게 입사되도록 상기 광원이 근거리에 위치된 경우, 상기 1차 내측미러링부재는 상기 광원을 초점으로 하는 1차 내측타원면미러인 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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방사선원의 광원으로부터 발산되는 발산빔 중에서 접촉되는 제1 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 외측미러링부재;두 개의 1차 외측미러링부재 사이에 배치되어, 상기 발산빔 중에서 두 개의 상기 1차 외측미러링부재 사이를 통과하는 제2 빔을 1차 반사하여 포커싱하는 두 개의 1차 내측미러링부재; 및상기 1차 외측미러링부재와 1차 내측미러링부재에 의해 1차 반사된 상기 제1 빔과 제2 빔을, 2차 반사하여 샘플위치에 포커싱하는 2차 미러링유닛;을 포함하며,상기 1차 내측미러링부재는 실리콘 또는 알루미늄 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 빔집속장치
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