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고분자 매트릭스, 상기 고분자 매트릭스에 분산되며 결정격자 구조로 배열되는 콜로이드 입자 및 광개시제를 포함하는 광결정 조성물의 경화물로, 상기 고분자 매트릭스는 에톡시화된 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 에톡시화된 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 및 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 제1아크릴레이트계 화합물 및 폴리프로필렌글리콜 아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트 및 폴리에틸렌글리콜 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 제2아크릴레이트계 화합물의 혼합물로부터 유도되는 중합체이며,상기 제2아크릴레이트계 화합물은 중량평균분자량이 300 내지 3,000g/mol이고,두께가 10 내지 200 ㎛이며, 400 내지 800nm 의 파장 범위에서의 투과율이 60% 이상인 것을 특징으로 하는 보안요소용 광결정 필름
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제1항에 있어서,상기 제1아크릴레이트계 화합물 및 제2아크릴레이트계 화합물의 중량 혼합비가 55:45 내지 25:75인 것을 특징으로 하는 보안요소용 광결정 필름
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제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 콜로이드 입자와의 굴절률 차이가 0
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제3항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 굴절률이 1
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삭제
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제1항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 하기 관계식 1을 만족하는 보안요소용 광결정 필름
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제 6항에 있어서,상기 콜로이드 입자의 평균입경은 50 내지 250 ㎚인 보안요소용 광결정 필름
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제1항에 있어서,상기 콜로이드 입자는 금속 나노입자, 금속산화물 나노입자, 유기 나노입자 및 탄소구조체 나노입자 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 보안요소용 광결정 필름
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제 1항 내지 제 4항 및 제6항 내지 제8항 중에서 선택되는 어느 한 항의 보안요소용 광결정 필름을 포함하는 보안물품
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천공되어 홀을 구비한 기재 상의 상기 홀에 제1아크릴레이트계 화합물 및 제2아크릴레이트계 화합물의 혼합물, 콜로이드 입자 및 광개시제를 포함하는 분산액을 주입하여 광결정 조성물층을 형성하는 단계, 및상기 광결정 조성물층을 광 조사하여 경화시키는 단계를 포함하는 보안요소용 광결정 필름의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 제1아크릴레이트계 화합물은 에톡시화된 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 에톡시화된 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 및 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상이고, 상기 제2아크릴레이트계 화합물은 폴리프로필렌글리콜 아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트 및 폴리에틸렌글리콜 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 보안요소용 광결정 필름의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 제1아크릴레이트계 화합물 및 제2아크릴레이트계 화합물의 중량 혼합비가 55:45 내지 25:75인 것을 특징으로 하는 보안요소용 광결정 필름의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 분산액을 주입하는 단계는 기재의 일면에 투명 고분자 필름을 더 포함하는 보안요소용 광결정 필름의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 분산액은 60 내지 100℃에서 도포되는 것인 보안요소용 광결정 필름의 제조방법
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