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점착성 투명전극 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019014860
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 점착성 투명전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 점착성 투명전극은 기판, 상기 기판 상에 증착되는 은(Ag) 나노와이어 네트워크가 임베디드된 점착성 폴리디메틸실록산(PDMS) 매트릭스를 포함하고, 상기 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스는 폴리디메틸실록산 주제(basd) 및 폴리디메틸실록산 경화제를 포함하는 폴리디메틸실록산 및 비이온성 계면활성제를 포함한다.
Int. CL H01B 13/32 (2006.01.01) H01B 13/00 (2006.01.01) C08L 83/04 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180065578 (2018.06.07)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0083947 (2019.07.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020180001504   |   2018.01.05
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020200030280;
심사청구여부/일자 Y (2018.06.07)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진우 서울특별시 서대문구
2 김진훈 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.06.07 수리 (Accepted) 1-1-2018-0559802-80
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0435760-67
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.08.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0847766-91
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2019-0847757-80
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0929647-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0086195-50
7 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2020.01.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2020-0086233-08
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2020.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0096532-70
9 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2020.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2020-0258851-38
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번호 청구항
1 1
기판; 및상기 기판 상에 증착되는 은(Ag) 나노와이어 네트워크가 임베디드된 점착성 폴리디메틸실록산(PDMS) 매트릭스를 포함하고,상기 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스는 폴리디메틸실록산 주제(base) 및 폴리디메틸실록산 경화제를 포함하는 폴리디메틸실록산 및 비이온성 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성 투명 전극
2 2
제1항에 있어서,상기 폴리디메틸실록산 경화제에 존재하는 백금(Pt) 촉매 및 상기 비이온성 계면활성제에 존재하는 극성 작용기의 상호 작용으로 인하여 상기 폴리디메틸실록산의 가교 반응(crosslinking reaction)이 저해(hindering)되고, 상기 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스의 기계적 특성이 향상되는 것을 특징으로 하는 점착성 투명전극
3 3
제1항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제에 존재하는 극성 작용기 및 은 나노와이어 네트워크에 존재하는 극성 작용기 사이의 상호작용으로 인하여 상기 은 나노와이어 네트워크가 상기 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스에 임베디드 되는 것을 특징으로 하는 점착성 투명 전극
4 4
제1항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐-폴리에틸렌 글리콜인 것을 특징으로 하는 점착성 투명 전극
5 5
제1항에 있어서,상기 폴리디메틸실록산 주제, 상기 폴리디메틸실록산 경화제 및 상기 비이온성 계면활성제는 10:1:0
6 6
기판 상에 은 나노와이어 네트워크를 형성하는 단계;상기 은 나노와이어 네트워크가 형성된 상기 기판 상에 폴리디메틸실록산 주제, 폴리디메틸실록산 경화제 및 비이온성 계면활성제를 포함하는 분산액을 코팅하는 단계; 및상기 은 나노와이어 네트워크가 형성된 상기 기판 상에 코팅된 분산액을 열경화시켜 상기 은 나노와이어 네트워크가 임베디드된 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성 투명전극의 제조 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 기판으로부터 상기 은 나노와이어 네트워크가 임베디드된 상기 점착성 폴리디메틸실록산 매트릭스를 분리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성 투명 전극의 제조 방법
8 8
제6항에 있어서,상기 기판 상에 나노와이어 네트워크를 형성하는 단계는 상기 기판 상에 은 나노와이어 용액을 코팅하는 단계; 및상기 은 나노와이어 용액이 코팅된 상기 기판을 어닐링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성 투명전극의 제조 방법
9 9
제8항에 있어서,상기 은 나노와이어 용액이 코팅된 상기 기판은 100 ℃ 내지 180 ℃에서 5분 내지 20분 동안 어닐링 하는 것을 특징으로 하는 점착성 투명전극의 제조 방법
10 10
제6항에 있어서,상기 은 나노와이어 네트워크가 형성된 상기 기판 상에 코팅된 분산액은 40 ℃ 내지 80 ℃에서 열경화되는 것을 특징으로 하는 점착성 투명전극의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR102176764 KR 대한민국 FAMILY
2 US20190214593 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR20200029432 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부 연세대학교 산학협력단 이공학개인기초연구지원사업 기계적 변형이 가능한 유기발광소자 개발(3/3)