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반연속 공정을 통한 전도성 고분자 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 전도성 고분자 필름

  • 기술번호 : KST2019014882
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 전도성 고분자 필름은, 일정 시간 간격으로 촉매를 분할하여 3 단계에 걸쳐 중합시킴으로써 반응 초기에 반응이 폭발적으로 진행되지 않도록 제어하는 동시에 전체 반응도를 유지할 수 있어, 전기 전도도를 유지하면서 광투과도를 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 전도성 고분자 필름은, 면저항 60 Ω/sq 조건에서, 가시광선 영역에서의 평균 광투과도가 81% 이상이고 헤이즈가 0.2 이하이며, CIE 색좌표 기준 b*는 -3.5 내지 -2.5 범위로, 저저항 영역에서 높은 투과율을 나타낼 수 있다. 또한, 전도성 고분자 필름을 이용한 투명전극으로의 응용 시 100 Ω/sq 미만의 저저항 영역에서의 높은 투과율이 필수적인데, 본 발명의 전도성 고분자 필름은 면저항 60 Ω/sq 조건에서 높은 광투과도 및 낮은 헤이즈 값을 나타내므로 투명전극에 응용이 가능하며, 우수한 투명전극 효과를 나타낼 수 있다.
Int. CL H01B 1/12 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) C08G 61/12 (2006.01.01)
CPC H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01) H01B 1/124(2013.01)
출원번호/일자 1020180030686 (2018.03.16)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2002722-0000 (2019.07.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20190722) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.16)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김중현 서울특별시 종로구
2 조원석 서울특별시 강서구
3 조한결 경기도 시흥시 은행로 *
4 김영노 경기도 안양시 동안구
5 이진근 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 그린나노테크 서울특별시 강남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2018.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2018-0264237-52
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2019.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.03.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0193691-05
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2019.03.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0027508-32
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2019.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2019-0498986-31
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0617707-24
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-0617708-70
8 등록결정서
Decision to grant		 2019.07.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0500662-05
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기재 상에 코팅된 전도성 고분자를 함유하는 전도성 고분자 용액을 포함하고,상기 전도성 고분자는 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 전도성 고분자 필름으로서,상기 전도성 고분자 필름은 면저항 60 Ω/sq 조건에서, 가시광선 영역에서의 평균 광투과도가 81% 이상이고,CIE 색좌표 기준, b*는 -3
2 2
제 1 항에 있어서,전도성 고분자는 PEDOT:PSS를 포함하는 전도성 고분자 필름
3 3
삭제
4 4
전도성 고분자 및 이온성 고분자 전해질을 함유하는 용액 및 전체 촉매량의 1/4 내지 2/5의 촉매량를 혼합하여 4 내지 8 시간 동안 중합을 진행하는 제 1 단계; 제 1 단계의 반응물 및 전체 촉매량의 1/4 내지 2/5의 촉매량을 혼합하여 4 내지 8 시간 동안 중합을 진행하는 제 2 단계; 및 제 2 단계의 반응물 및 전체 촉매량에서 제 1 단계 및 제 2 단계에서 사용된 촉매를 제외한 나머지 촉매량을 혼합하여 10 내지 14 시간 동안 중합을 진행하는 단계를 포함하는 전도성 고분자 필름의 제조방법
5 5
제 4 항에 있어서,상기 중합 온도는 5 내지 15℃인 전도성 고분자 필름의 제조방법
6 6
제 4 항에 있어서,제 2 단계 및 제 3 단계에서 촉매의 혼합 전에 Ar 가스를 이용하여 촉매를 탈기하는 단계를 추가 포함하는 전도성 고분자 필름의 제조방법
7 7
제 4 항에 있어서,전도성 고분자는 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 전도성 고분자 필름의 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서,X 및 Y는 각각 독립적으로, O, S, Si 또는 N을 나타내고,R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 3 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 2 내지 20의 헤테로아릴기를 나타내고,n은 2 내지 2000의 정수이며,선택적으로, R1 및 R2는 서로 결합되어 융합된 고리 구조를 나타낸다
8 8
제 4 항에 있어서,전도성 고분자는 PEDOT:PSS인 전도성 고분자 필름의 제조방법
9 9
제 4 항에 있어서, 이온성 고분자 전해질은 단량체 음이온 또는 다중 음이온을 포함하는 전도성 고분자 필름의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 연세대학교 산학협력단 원천기술개발사업 [Ezbaro]분자공학적 설계를 통한 준입자거동 제어형 스케일러블 ICT소재 개발
2 과학기술정보통신부 연세대학교 산학협력단 나노소재기술개발사업 [Ezbaro](총괄/1세부)유기 투명전극용 고전도성 고분자 나노입자제조 및 공정 원천기술 연구(2/2단계)(1/2연차)