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액체를 저장하는 저장부,상기 저장부의 일측에 구비되어 상기 저장부 내부로 유연기판을 공급하는 기판 공급부,상기 저장부의 내부에서 액체 플라즈마 분위기를 형성하여 생성된 코팅물질로 상기 저장부의 내부로 공급된 유연기판의 표면을 코팅하는 코팅부,상기 저장부의 타측에 구비되어 코팅된 유연기판을 회수하는 기판 회수부, 그리고상기 기판 공급부와 상기 기판 회수부 사이에 구비되어 상기 유연기판의 연속 이송라인을 형성하는 기판 이송부를 포함하며,상기 코팅부는상기 저장부의 내부 일측에 결합되며, 전원 공급부로부터 발생된 전원이 입력되어 상기 저장부에 저장된 액체를 액체 플라즈마 분위기로 형성시키는 플라즈마 전극부,상기 저장부의 내부로 미리 설정된 정량의 전구체를 공급하는 전구체 공급부, 그리고상기 저장부의 외벽에 결합되어 상기 저장부의 내부로 혼합가스를 공급하여 상기 액체와 상기 전구체의 균일한 혼합을 유도하는 가스 공급부를 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서, 상기 코팅물질은 상기 전구체와 상기 액체를 이용하여 금속, 금속산화물, 그리고 광촉매 나노입자를 합성하여 형성하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제3항에서,상기 전구체는 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 또는 티타늄(Ti) 중 하나 이상을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제4항에서,상기 구리를 포함하는 전구체는 시안화동(Cu(CN)2), 구리옥살산(Cu(COO)2), 구리아세트산(CuCOOCu), 구리탄산염(CuCO3), 염화제2구리(CuCl2), 염화제1구리(CuCl), 황산구리(CuSO4), 질산구리(Cu(NO3)2), 또는 수산화구리(Cu(OH)2) 중 하나 이상을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제4항에서,상기 니켈을 포함하는 전구체는 염화니켈(NiCl2), 황산니켈(NiSO4), 수산화니켈(Ni(OH)2), 니켈 아세테이트(Ni(OCOCH3)2), 니켈 아세틸아세토네이트(Ni(C5H7O2)2), 탄산니켈(NiCO3), 니켈 시클로헥산부티레이트([C6H11(CH2)3CO2]2Ni), 질산니켈(Ni(NO3)2), 니켈 옥살레이트(NiC2O4), 니켈 스티어레이트(Ni(H3C(CH2)16CO2)2), 또는 니켈 옥타노에이트([CH3(CH2)6CO2]2Ni) 중 하나 이상을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 플라즈마 전극부는일단이 상기 저장부의 내부 일측에 결합되며, 타측이 상기 액체와 접하는 방전부를 갖는 메인 전극부, 그리고상기 메인 전극부와 서로 대향되는 위치에서 일단이 상기 저장부의 내부 타측에 결합되며, 타측이 상기 액체와 접하는 접지 전극부를 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제7항에서,상기 메인 전극부는 중공형의 석영 튜브 내에 결합되는 텅스텐 전극을 구비하는 모세관(capillary tube)형 플라즈마 전극을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 유연기판의 연속 이송라인에서 상기 저장부와 상기 기판 회수부 사이에 구비되어 미리 설정된 세정액이 저장된 세정조에서 코팅된 유연기판을 세정하는 세정부, 그리고상기 세정부와 상기 기판 회수부 사이에 구비되어 세정된 유연기판을 건조하는 건조부를 더 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제9항에서,상기 세정부는 수세 방식으로 세정하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제9항에서,상기 세정부는 산세 방식으로 세정하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제9항에서,상기 세정액은 물, 또는 에탄올 중 하나 이상을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제9항에서,상기 건조부는 질소분위기로 건조하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제9항에서,상기 건조부는 드라이 방식으로 건조하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 유연기판은 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리비닐피리딘(PVP), 접착 테이프, 열 박리성 테이프, 수용성 테이프, 에폭시를 포함하는 고분자, 열 박리성 고분자, 부직포 또는 활성탄소 섬유를 포함하는 섬유재질, 또는 폴리이미드 필름 중 하나 이상을 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 코팅된 유연기판은 롤형식으로 회수하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 코팅된 유연기판은 미리 설정된 크기로 절단하여 회수하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 가스 공급부는 상기 저장부의 하부에서 설정된 간격으로 구비된 제1 가스 입구 내지 제3 가스 입구에 각각 2개씩 구비되어 출구가 설정된 간격으로 경사지게 배치되는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제18항에서,상기 혼합가스는 냉각가스를 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제3항에서,광촉매 나노입자의 합성으로 형성된 코팅물질과 상기 코팅물질의 상기 유연기판 코팅은 동시에 진행되는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제3항에서,상기 유연기판에 코팅되는 코팅물질의 두께는 전구체의 공급량, 플라즈마 반응시간, 그리고 입력 전원의 조건으로 설정되는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제21항에서,상기 플라즈마 반응시간은 롤의 회전수 조절, 플라즈마 방전 횟수, 그리고 플라즈마 반응횟수를 조절하여 설정되는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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제1항에서,상기 기판 이송부는 롤투롤 방식으로 형성하는 액체 플라즈마 연속 코팅장치
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액체를 저장부에 저장하는 준비단계,상기 저장부 내부로 유연기판을 공급하는 유연기판 공급단계,상기 저장부의 내부에서 플라즈마를 발생하여 금속, 금속산화물, 광촉매 나노입자를 합성과 동시에 상기 저장부의 내부로 공급된 유연기판의 표면을 코팅하는 유연기판 코팅단계, 그리고상기 저장부의 외부로 코팅된 유연기판을 회수하는 유연기판 회수단계를 포함하며,상기 유연기판 공급단계와 상기 유연기판 코팅단계, 그리고 상기 유연기판 회수단계는 연속 이송라인으로 형성되고,상기 유연기판 코팅단계에서 상기 저장부의 내부로 미리 설정된 정량의 전구체를 공급하는 전구체 공급부를 통해 상기 저장부의 내부로 유입되는 전구체의 양을 정량적으로 공급하는 단계, 그리고상기 저장부의 외벽에 결합되는 가스 공급부를 통해 상기 저장부의 내부로 혼합가스를 공급하여 상기 액체와 상기 전구체의 균일한 혼합을 유도하는 가스 공급단계를 더 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅방법
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제24항에서,상기 유연기판 회수단계에서 상기 코팅된 유연기판을 세정하는 유연기판 세정단계, 그리고상기 세정된 유연기판을 건조하는 유연기판 건조단계를 더 포함하는 액체 플라즈마 연속 코팅방법
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