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수처리 저온 플라즈마 발생 장치

  • 기술번호 : KST2019014927
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마를 피처리수에 접촉하고 안정적으로 장시간 피처리수를 정화하고, 수처리 플라즈마 발생 장치의 수율을 높이기 위한 수처리 플라즈마 발생 장치를 제공하고자 한다. 본 발명의 실시예에 따른 수처리 플라즈마 발생 장치는 외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체, 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체, 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 관통홀을 통과한 소스 가스에 의해 외부유전체에서 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 플라즈마는 피처리수를 정화할 수 있다.
Int. CL C02F 1/467 (2006.01.01) H05H 1/24 (2006.01.01)
CPC C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01)
출원번호/일자 1020180017795 (2018.02.13)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1903026-0000 (2018.09.20)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20181001) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.02.13)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍용철 대한민국 경기도 고양시 일산동구
2 마숙활 대한민국 전라북도 군산시 백토로 ***, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0157953-47
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-0161661-60
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2018.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2018.03.02 수리 (Accepted) 9-1-2018-0008346-46
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0330775-22
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0588573-98
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0588574-33
8 등록결정서
Decision to grant
2018.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0585475-43
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체,상기 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체,상기 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부 를 포함하고상기 관통홀을 통과한 상기 소스 가스에 의해 상기 외부유전체에서 상기 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 상기 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 접지 전극이고 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 회로를 구성하고, 상기 전원공급부가 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하면 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 접지되어 상기 외부유전체에 공급된 소스 가스에 의해 발생된 상기 플라즈마는 상기 관통홀을 통과하여 상기 피처리수를 정화하고상기 내부유전체는 일측 단부가 막힌 형상을 가지고, 상기 외부유전체는 상기 내부유전체를 감싸며 일측 단부가 막힌 형상을 가지고 상기 내부유전체와 상기 외부유전체가 막힌 측면을 고정한 상태에서 상기 제1 유연전극을 삽입하는 수처리 플라즈마 발생 장치
2 2
제1항에서,상기 제1 유연전극은 상기 외부유전체 내부에서 상기 외부유전체와 동축에 배치되거나 편심으로 배치되는 수처리 플라즈마 발생 장치
3 3
제2항에서,상기 내부유전체 내부에 위치하고 상기 제1 유연전극과 대향하며 위치하는 제2 유연전극을 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
4 4
제3항에서,상기 내부유전체 내부에 위치하고 상기 제1 유연전극과 교차하며 위치하는 제3 유연전극, 상기 내부 유전체 내부에 위치하고 상기 제3 유연전극과 대향하며 위치하는 제4 유연전극을 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
5 5
삭제
6 6
제1항에서,상기 전원공급부의 전원이 오프 될 경우, 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 비상발전기를 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
7 7
삭제
8 8
제6항에서,상기 제1 유연전극은 상기 외부유전체 내부에서 상기 외부유전체와 동축에 배치되거나 편심으로 배치되는 수처리 플라즈마 발생 장치
9 9
제8항에서,상기 외부유전체 내부에 위치하고 상기 제1 유연전극과 대향하며 위치하는 제2 유연전극을 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
10 10
제9항에서,상기 외부유전체 내부에 위치하고 상기 제1 유연전극과 교차하며 위치하는 제3 유연전극, 상기 내부 유전체 내부에 위치하고 상기 제3 유연전극과 대향하며 위치하는 제4 유연전극을 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
11 11
제10항에서,상기 전원공급부의 전원이 오프 될 경우, 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 비상발전기를 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
12 12
소스 가스가 주입되는 외부유전체,외면에 관통홀이 형성되고 상기 외부유전체의 내부에 위치하고 피처리수가 유입되는 내부유전체,상기 외부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 접지되어 상기 소스 가스에 의해 상기 외부유전체에서 상기 내부유전체를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 접지 전극이고 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 회로를 구성하고, 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하면 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 접지되어 상기 외부유전체에 공급된 소스 가스에 의해 발생된 상기 플라즈마는 상기 관통홀을 통과하여 상기 내부유전체의 상기 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 상기 내부유전체에 유입되어 수용되고, 상기 내부유전체에 유입된 상기 피처리수는 일정한 유량을 가지며 상기 내부유전체의 타측 단부로 정화되어 배출되는 수처리 플라즈마 발생 장치
13 13
제12항에서,상기 내부유전체는 상기 외부유전체의 내부에서 상기 외부유전체와 동축에 배치되거나 편심으로 배치되는 수처리 플라즈마 발생 장치
14 14
제13항에서,상기 외부유전체 내부에 위치하고 상기 제1 유연전극과 대향하며 위치하는 제2 유연전극을 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
15 15
제12항에서,상기 제1 유연전극은 상기 내부유전체를 감싸며 원통형 형상을 가지는 수처리 플라즈마 발생 장치
16 16
제12항에서,상기 전원공급부의 전원이 오프 될 경우, 상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 비상발전기를 더 포함하는 수처리 플라즈마 발생 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 국가핵융합연구소 국가핵융합연구소 연구운영비지원사업 플라즈마 융합 원천 연구사업