1 |
1
기판 상부에 형성되는 복수의 게이트 라인;상기 복수의 게이트 라인 상부에 형성되는 절연층;상기 절연층 상부에 형성되어 상기 복수의 게이트 라인과 상하로 교차하는 중첩 영역을 갖는 복수의 데이터 라인; 을 포함하고,상기 복수의 게이트 라인 및 상기 복수의 데이터 라인은,상기 중첩 영역의 선폭이 다른 영역의 선폭보다 좁게 형성되며,상기 중첩 영역에서 상기 데이터 라인과 상기 게이트 라인 사이에 배치되는 반도체층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 복수의 게이트 라인과 상기 복수의 데이터 라인에 의해 형성되는 공간에 배치되며, 상기 게이트 라인과 상기 데이터 라인에 연결되는 소자부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 게이트 라인으로부터 연장 형성되어, 상기 게이트 라인과 상기 소자부를 연결하는 보조 게이트 라인;상기 데이터 라인으로부터 연장 형성되어, 상기 데이터 라인과 상기 소자부를 연결하는 보조 데이터 라인;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널
|
4 |
4
제3항에 있어서,상기 소자부는,상기 보조 게이트 라인으로부터 연장 형성되는 게이트 전극;상기 게이트 전극의 상부를 덮으며, 상기 절연층과 일체로 형성되는 소자 절연층;상기 소자 절연층 상부에 상기 반도체층과 함께 형성되는 소자 반도체층;상기 보조 데이터 라인으로부터 연장 형성되되, 상기 소자 반도체층 상부에 형성되는 데이터 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 복수의 데이터 라인, 상기 보조 데이터 라인 및 상기 소자부의 상부를 덮는 보호층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널
|
6 |
6
기판 상부에 복수의 게이트 라인을 형성하는 단계;상기 복수의 게이트 라인 상부에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상부에 상기 복수의 게이트 라인과 서로 교차하는 중첩 영역을 갖도록 복수의 데이터 라인을 형성하는 단계; 를 포함하고,상기 게이트 라인을 형성하는 단계 및 상기 데이터 라인을 형성하는 단계에서,상기 중첩 영역의 선폭이 다른 영역의 선폭보다 좁게 형성하고,상기 중첩 영역에서 상기 데이터 라인과 상기 게이트 라인 사이에 배치되는 반도체층을 형성하는 것을 특징으로 하는 표시 패널의 제조 방법
|