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1
제1유체를 함유하는 코어층;상기 코어층 상에 형성되며 제2유체를 함유하는 중간층; 및상기 중간층 상에 형성되며 제3유체를 함유하는 연속상;을 포함하고, 나노입자 및 양친매성 고분자가 하기 관계식 1의 비율로 포함되는 이중 에멀전
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2
제1항에 있어서, 제1유체 및 제3유체는 동일하거나 상이할 수 있되 서로 혼화성이 있고, 제2유체는 제1유체 및 제3유체와 각각 비혼화성인 이중 에멀전
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3
제1항에 있어서, 상기 나노입자는 무기 나노입자인 이중 에멀전
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4
제 1항에 있어서,상기 양친매성 고분자는 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 반복단위 내에 포함하는 이중 에멀전
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5
제 4항에 있어서,상기 화학식 1의 L은 에스테르기(-COO-), 아미드기(-CONH-), 우레탄기(-NHCOO-), 우레아기(-NHCONH-), 이민기(-NH-), 이미드기(-CONHCO-) 및 무수물기(-C(O)OC(O)-)에서 선택되는 것인 이중 에멀전
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6
제 4항에 있어서,상기 양친매성 고분자의 R1 및 R2의 전체 탄소수는 1 내지 10인 이중 에멀전
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7
삭제
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8
제 1항에 있어서,제1유체 및 제3유체는 유상을 포함하고, 제2유체는 수상을 포함하는 O/W/O형 이중 에멀전
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9
제 1항에 있어서,상기 나노입자는 소수성 표면을 포함하고, 상기 양친매성 고분자는 비수용성인 것인 O/W/O형 이중 에멀전
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10
제 1항에 있어서,제1유체 및 제3유체는 수상을 포함하고, 제2유체는 유상을 포함하는 W/O/W형 이중 에멀전
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11
제 10항에 있어서,상기 나노입자는 친수성 표면을 포함하고, 상기 양친매성 고분자는 수용성인 것인 W/O/W형 이중 에멀전
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12
제 1항에 있어서,제2유체는 총 유체 대비 1 내지 70 부피%인 이중 에멀전
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13
제1유체, 상기 제1유체에 비혼화성인 제2유체, 나노입자 및 양친매성 고분자를 포함하며, 상기 나노입자 및 양친매성 고분자는 하기 관계식 1의 비율로 포함되는 이중 에멀전 제조용 조성물
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14
제 13항에 있어서,상기 나노입자 및 양친매성 고분자는 조성물 총 중량 대비 0
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삭제
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나노입자 및 양친매성 고분자를 포함하는 제1유체를 준비하는 단계; 및상기 제1유체에 비혼화성인 제2유체를 혼합하고 교반하는 단계;를 포함하며, 상기 나노입자 및 양친매성 고분자는 하기 관계식 1의 비율로 포함되는 이중 에멀전의 제조방법
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