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원자력 발전소의 계통에 약품을 주입하는 약품 공급부,상기 계통과 연결되어 있는 필터부, 상기 필터부와 연결되어 있는 양이온 교환 수지, 상기 양이온 교환 수지와 연결되며 복수의 자외선 램프를 포함하는 자외선 반응기,상기 자외선 반응기와 연결되고, 상기 자외선 램프 표면에 침적된 금속을 용출시켜 제거하는 세척액을 공급하는 세척액 탱크,상기 자외선 반응기와 연결되어 있는 혼상 이온 교환 수지,상기 약품 공급부, 필터부, 양이온 교환 수지, 자외선 반응기 및 혼상 이온 교환 수지 사이를 연결하여 상기 계통과 함께 용액의 순환 구조를 형성하는 순환 배관부를 포함하는 계통 제염 설비
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제1항에서,상기 자외선 반응기는상기 자외선 반응기 내부의 기체를 배출하기 위한 배기관,상기 자외선 반응기에 과산화수소를 주입하는 과산화수소 탱크,를 더 포함하는 계통 제염 설비
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제1항에서,상기 자외선 반응기는 UVB 램프와 UVC 램프를 포함하는 계통 제염 설비
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제1항에서,상기 순환 배관부는 상기 계통과 상기 필터부 사이를 연결하는 제1 순환 배관,상기 필터부와 상기 양이온 교환 수지 사이를 연결하는 제2 순환 배관,상기 양이온 교환 수지와 상기 자외선 반응기 사이를 연결하는 제3 순환 배관,상기 자외선 반응기와 상기 혼상 이온 교환 수지를 연결하는 제4 순환 배관,상기 혼상 이온 교환 수지와 상기 계통을 연결하는 제5 순환 배관을 포함하고,상기 제3 순환 배관은 상기 자외선 반응기의 하부 또는 하부측면과 연결되고, 상기 제4 순환 배관은 상기 자외선 반응기의 상부 또는 상부측면과 연결되어 있는 계통 제염 설비
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제4항에서,상기 순환 배관부는 상기 제2 순환 배관과 상기 제3 순환 배관 사이를 연결하여 상기 양이온 교환 수지를 우회하는 제1 우회 배관,상기 제4 순환 배관과 상기 제5 순환 배관 사이를 연결하여 상기 혼상 이온 교환 수지를 우회하는 제2 우회 배관,상기 제3 순환 배관과 상기 제4 순환 배관 사이를 연결하여 상기 자외선 반응기를 우회하는 제3 우회 배관을 더 포함하는 계통 제염 설비
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제4항에서,상기 계통과 상기 필터부 사이의 상기 제1 순환 배관과 연결되어 있는 모니터링부를 더 포함하고,상기 모니터링부는 상기 제1 순환 배관을 이동하는 용액의 pH, ORP(산화-환원 전위, Oxidation-Reduction Potential), 전도도를 측정하는 센서를 포함하는 계통 제염 설비
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제1항에서,상기 필터부의 효율은 10㎛이상의 금속 입자 제거 효율이 98%이상인 계통 제염 설비
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제1항에서,상기 약품 공급부는 상기 계통 내부에 형성된 산화물을 제거하기 위한 산화제, 유기산 또는 무기산을 각각 저장하는 복수의 탱크를 포함하는 계통 제염 설비
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제4항에서,상기 제2 순환 배관 및 상기 제5 순환 배관에 각각 설치되어 있는 펌프를 더 포함하고,상기 제5 순환 배관에 설치된 펌프는 부스터 펌프인 계통 제염 설비
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 계통 제염 설비를 이용하여 계통 제염하는 방법에 있어서, 상기 약품 공급부를 통해서 상기 계통에 산화제를 주입하여 산화 공정을 진행하는 단계,상기 계통에 환원제를 1차 주입하여 산화제 제거 공정을 진행하는 단계,상기 계통에 환원제를 2차 주입하여 환원 공정을 진행하는 단계,상기 계통에서 배출되는 용액을 상기 필터부, 상기 양이온 교환 수지, 상기 자외선 반응기, 상기 양이온 교환 수지를 통과시켜 정화 공정을 진행하는 단계,상기 자외선 반응기에 세척액을 주입하여 상기 자외선 반응기 내에 설치된 램프 표면을 세척하는 단계를 포함하고,상기 세척하는 단계는 상기 용액이 상기 계통에 머무르는 동안 진행하는 계통 제염 방법
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제10항에서,상기 산화제 제거 공정을 진행하는 단계와 상기 환원 공정을 진행하는 단계의 상기 환원제는 서로 다른 농도의 환원제인 계통 제염 방법
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제11항에서,상기 산화제 제거 공정의 상기 환원제는 100 내지 1,000ppm의 옥살산이고,상기 환원 공정의 상기 환원제는 1,000 내지 3,000ppm의 옥살산인 계통 제염 방법
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제10항에서,상기 환원 공정을 진행하는 단계는,상기 산화제 제거 공정 진행 후, 30분 내지 1시간 후 진행하는 계통 제염 방법
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