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공정 챔버 후단의 진공 배기관에 접속되며, 상기 진공 배기관의 공정 가스를 분석하여 공정 모니터링을 수행하는 플라즈마 반응기에 있어서,상기 진공 배기관에 접속되는 관형의 접지 전극;상기 접지 전극에 결합되며, 상기 접지 전극과 반대되는 단부의 내측에 관형의 스페이서를 구비한 관형의 유전체;상기 유전체의 외면에 위치하고, 상기 접지 전극에 대해 최소 간격으로부터 최대 간격에 이르는 간격 범위를 가지며, 전원으로부터 플라즈마 발생을 위한 구동 전압을 인가받는 고전압 전극; 및상기 스페이서와 접하며 상기 유전체의 단부에 결합된 시창구를 포함하고,상기 스페이서는 상기 유전체의 내경보다 작은 내경을 가지며, 상기 시창구와 접하는 상기 유전체 단부의 내측 공간을 협소화하는 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은, 상기 진공 배기관의 내부에 위치하며 적어도 하나의 개구를 가지는 내측부와, 상기 진공 배기관의 외부에 위치하는 외측부로 구분되는 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 내측부는 앞쪽이 막힌 형상이고, 상기 개구는 공정 가스의 상류측에 위치하는 제1 개구와 공정 가스의 하류측에 위치하는 제2 개구로 구분되는 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 접지 전극의 내부 공간은 균일 직경부와, 상기 균일 직경부보다 상기 유전체로부터 더 멀리 위치하며 상기 유전체로부터 멀어질수록 내경이 작아지는 가변 직경부로 구성되고, 상기 적어도 하나의 개구는 상기 가변 직경부와 통하는 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 내측부는 서로 이격된 제1 파트 및 제2 파트와, 상기 제1 파트와 상기 제2 파트를 일체로 결합시키는 복수의 금속 바를 포함하며, 상기 복수의 금속 바 사이의 열린 부분이 상기 개구로 기능하는 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 하나의 연결 포트에 의해 상기 진공 배기관에 접속되며,상기 연결 포트의 내경은 상기 접지 전극의 내경보다 작고, 상기 진공 배기관 내경의 절반 이하인 플라즈마 반응기
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제6항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 진공 배기관을 향한 앞쪽에 상기 연결 포트와 통하는 적어도 하나의 개구를 가지는 플라즈마 반응기
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제6항에 있어서,상기 접지 전극의 내부 공간은 균일 직경부와, 상기 균일 직경부보다 상기 유전체로부터 더 멀리 위치하며 상기 유전체로부터 멀어질수록 내경이 작아지는 가변 직경부로 구성되고, 상기 가변 직경부가 상기 연결 포트와 통하는 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 연결 포트에 의해 상기 진공 배기관에 접속되고,상기 유전체는 상기 접지 전극의 상측과 하측 중 적어도 한 측에서 상기 진공 배기관과 나란하게 결합되는 플라즈마 반응기
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제9항에 있어서,상기 연결 포트는 공정 가스의 상류측에 위치하는 유입 포트와, 공정 가스의 하류측에 위치하는 배출 포트로 구분되는 플라즈마 반응기
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제10항에 있어서,상기 접지 전극의 내부에서 상기 유입 포트와 상기 배출 포트 사이에 고정되며, 상기 유전체의 내부 공간과 마주하는 대향부를 더 포함하는 플라즈마 반응기
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공정 챔버 후단의 진공 배기관에 접속되며, 상기 진공 배기관의 공정 가스를 분석하여 공정 모니터링을 수행하는 플라즈마 반응기에 있어서,유입구와 배출구를 가지는 관형의 접지 전극과, 상기 진공 배기관과 상기 유입구를 연결하는 유입 포트와, 상기 진공 배기관과 상기 배출구를 연결하는 배출 포트를 포함하는 접지 전극부;상기 접지 전극에 결합되며, 상기 접지 전극과 반대되는 단부의 내측에 관형의 스페이서를 구비한 관형의 유전체;상기 유전체의 외면에 위치하고, 상기 접지 전극에 대해 최소 간격으로부터 최대 간격에 이르는 간격 범위를 가지며, 전원으로부터 플라즈마 발생을 위한 구동 전압을 인가받는 고전압 전극; 및상기 스페이서와 접하며 상기 유전체의 단부에 결합된 시창구를 포함하고,상기 스페이서는 상기 유전체의 내경보다 작은 내경을 가지며, 상기 시창구와 접하는 상기 유전체 단부의 내측 공간을 협소화하는 플라즈마 반응기
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제12항에 있어서,상기 유입구는 상기 배출구보다 상기 공정 가스의 상류측에 더 가깝게 위치하며, 상기 배출구의 직경은 상기 유입구의 직경과 같거나 이보다 큰 플라즈마 반응기
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제13항에 있어서,상기 배출구는 상기 유입구보다 상기 유전체에 더 가깝게 위치하며, 상기 배출 포트의 길이는 상기 유입 포트의 길이보다 큰 플라즈마 반응기
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제14항에 있어서,상기 접지 전극의 내부 공간은 균일 직경부와, 상기 균일 직경부보다 상기 유전체로부터 더 멀리 위치하며 상기 유전체로부터 멀어질수록 내경이 작아지는 가변 직경부로 구성되고,상기 유입구는 상기 가변 직경부와 통하며, 상기 배출구는 상기 균일 직경부와 통하는 플라즈마 반응기
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제13항에 있어서,상기 유입구는 상기 배출구보다 상기 유전체에 더 가깝게 위치하며, 상기 유입 포트의 길이는 상기 배출 포트의 길이보다 큰 플라즈마 반응기
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제16항에 있어서,상기 접지 전극의 내부 공간은 균일 직경부와, 상기 균일 직경부보다 상기 유전체로부터 더 멀리 위치하며 상기 유전체로부터 멀어질수록 내경이 작아지는 가변 직경부로 구성되고,상기 유입구는 상기 균일 직경부와 통하며, 상기 배출구는 상기 가변 직경부와 통하는 플라즈마 반응기
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제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시창구와 접하는 상기 유전체의 단부는 유전체 홀더로 둘러싸이고,상기 유전체의 길이 방향에 따른 상기 유전체 홀더와 상기 고전압 전극간 거리는 상기 스페이서와 상기 고전압 전극간 거리보다 큰 플라즈마 반응기
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공정 챔버 후단의 진공 배기관에 접속되며, 상기 진공 배기관의 공정 가스를 분석하여 공정 모니터링을 수행하는 플라즈마 반응기에 있어서,상기 진공 배기관에 접속되는 관형의 접지 전극;상기 접지 전극에 결합되며, 상기 접지 전극과 반대되는 단부의 내측에 관형의 스페이서를 구비한 관형의 유전체;상기 유전체의 외면에 위치하고, 상기 접지 전극에 대해 최소 간격으로부터 최대 간격에 이르는 간격 범위를 가지며, 전원으로부터 플라즈마 발생을 위한 구동 전압을 인가받는 고전압 전극;상기 스페이서와 접하며 상기 유전체의 단부에 결합된 시창구; 및상기 유전체의 단부를 둘러싸는 유전체 홀더를 포함하며,상기 스페이서는 상기 유전체의 내경보다 작은 내경과, 상기 유전체의 길이 방향을 따라 상기 유전체 홀더의 길이보다 큰 길이를 가지며, 상기 시창구와 접하는 상기 유전체 단부의 내측 공간을 협소화하는 플라즈마 반응기
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제19항에 있어서,상기 유전체의 길이는 상기 고전압 전극의 길이보다 크고,상기 고전압 전극은 상기 유전체의 길이 방향을 따라 상기 스페이서 및 상기 접지 전극과 이격되는 플라즈마 반응기
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제1항 내지 제17항, 제19항, 및 제20항 중 어느 한 항에 있어서,상기 고전압 전극은 상기 유전체의 둘레 방향을 따라 상기 유전체를 연속으로 둘러싸는 관형 전극이고, 상기 전원으로부터 교류(AC) 전압 또는 고주파(RF) 전압을 인가받는 플라즈마 반응기
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제1항 내지 제17항, 제19항, 및 제20항 중 어느 한 항에 있어서,상기 고전압 전극은 상기 유전체의 둘레 방향을 따라 서로 이격된 두 개의 고전압 전극으로 구분되며, 상기 두 개의 고전압 전극은 상기 전원으로부터 바이폴라 펄스 전압을 인가받는 플라즈마 반응기
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