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피대상체를 준비하는 단계;전해액 내에 양극(anode) 및 음극(cathode)를 설치하고 양극(anode)에 피대상체를 연결하는 단계;상기 양극(anode) 및 상기 음극(cathode) 에 전압을 걸어 제1플라즈마를 발생시키는 단계;치수안정성을 유지하면서 조도를 낮추도록 상기 피대상체를 상기 제1 플라즈마로 전해연마 처리 하는 단계; 상기 제1 플라즈마 발생시키는 단계에서 걸어준 전압보다 낮은 전압을 걸어 제2 플라즈마를 발생시키는 단계; 및상기 피대상체의 표면광택을 구현하도록 상기 피대상체를 상기 제2 플라즈마로 전해연마 처리 하는 단계를 포함하고,상기 제1 플라즈마 전해연마 처리하는 단계는 380V 내지 500V의 고전압 영역에서 20초 내지 10분 수행되고, 상기 제2 플라즈마 전해연마 처리하는 단계는 260V 내지 370V의 저전압 영역에서 20초 내지 5분 수행되는 것을 특징으로 하고,상기 제2 플라즈마 전해연마 처리하는 단계에서 상기 제2 플라즈마가 상기 제1 플라즈마 전해연마 처리하는 단계에서의 제1 플라즈마보다 상대적으로 적게 발생되어 조도를 감소시키는 효과보다 상기 피대상체의 표면을 전해액에 의해 녹여 광택을 발휘하는 효과가 상대적으로 더 큰 것을 특징으로 하고,상기 전해액은 황산암모늄, 수산화칼륨 또는 수산화나트륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해연마 방법
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제1항에 있어서,상기 피대상체는 스테인리스, Ni합금, Cu합금 또는 Co-Cr합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해연마 방법
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제1항에 있어서,상기 전해액의 pH는 4 내지 8인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해연마 방법
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제1항에 있어서,상기 전해액의 황산암모늄, 수산화칼륨 또는 수산화나트륨의 몰 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 전해액의 온도는 20℃ 내지 90℃인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해연마 방법
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제1항의 전해연마 방법으로 전해연마 하여 제조된 금속 소재
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