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전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부를 포함하며,상기 플라즈마 반응부는상기 관체의 일부를 형성하는 유전체, 및상기 관체의 외부에서 상기 유전체에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 유전체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함하고,상기 액체는 방전전극에 대향하는 접지 전극으로 작용하며,상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지고,상기 유전체는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가지는 플라즈마 액처리 장치
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제1항에 있어서,상기 관체는 수평 방향으로 설치되고,상기 유전체는 상기 관체의 상방에서 수평 방향으로 형성되는플라즈마 액처리 장치
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제3항에 있어서,상기 방전전극은상기 유전체의 외부 표면에 대응하여 형성되어 부착되는플라즈마 액처리 장치
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제1항에 있어서,상기 관체는 유전체로 형성되고,상기 방전전극은 상기 관체의 외부에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 관체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는플라즈마 액처리 장치
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7
전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부를 포함하며,상기 플라즈마 반응부는상기 관체의 일측에 형성되는 설치구,상기 설치구에 구비되어 방전갭을 형성하는 유전체, 및상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함하는 플라즈마 액처리 장치
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8
제7항에 있어서,상기 방전갭은 복수로 형성되고,상기 방전전극은 복수로 구비되어 액체 흐름 방향을 따라 상기 방전갭의 양측에 배치되는플라즈마 액처리 장치
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9
제7항에 있어서,상기 관체는 수평 방향으로 설치되고,상기 설치구는 상기 관체의 상방에 형성되며,상기 플라즈마 반응부는상기 설치구에 설치되어 상기 방전갭의 연통 방향을 상기 수평 방향에 교차되게 하는플라즈마 액처리 장치
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10
제9항에 있어서,상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지며,상기 설치구는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가지는플라즈마 액처리 장치
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11
전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부를 포함하며,상기 관체는 일측에 플라즈마 스트리머 유입구를 구비하고,상기 플라즈마 반응부는상기 플라즈마 스트리머 유입구에서 분리되어 배치되고,상기 플라즈마 스트리머 유입구를 향하여 개방되는 방전갭을 형성하는 유전체, 및상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함하는 플라즈마 액처리 장치
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12
전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응기;상기 관체에 액체를 공급하는 공급라인; 및상기 플라즈마 스트리머에 의하여 처리되어 상기 관체를 경유한 액체를 저장하는 처리액 저장 탱크를 포함하며,플라즈마 반응부는상기 관체의 일측에 형성되는 설치구,상기 설치구에 구비되어 방전갭을 형성하는 유전체, 및상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함하는 플라즈마 액처리 장치
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제12항에 있어서,상기 공급라인에 설치되는 3방향 밸브, 및상기 3방향 밸브에 연결되어 상기 관체에 첨가물을 공급하는 첨가물 탱크를 더 포함하는 플라즈마 액처리 장치
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