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포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치 홀로그래픽 광소자를 제작하는 방법에 있어서,(a) 서로 다른 각도를 가지면서 포토폴리머의 일면에 구비된 하나의 렌즈를 통과하는 N개(N은 자연수)의 물체광과 웨이브 가이드 내부를 전반사한 참조광을 상기 포토폴리머의 일 면에 입사시키는 단계; 및(b) 상기 물체광과 참조광의 간섭으로 생성된 간섭 패턴이 기록된 상기 포토폴리머를 자외선 램프로 경화시키는 단계;를 포함하고,상기 (a) 단계는상기 포토폴리머의 일면에 대하여 수직한 방향으로 입사하여, 상기 포토폴리머의 일면을 통과한 지점에 위치한 제 1 초점을 통과하도록 하는 제 1 물체광, 상기 제 1 초점과 소정 거리 이격된 N개의 제 2 초점을 각각 통과하도록 하는 N개의 제 2 물체광을 조사하고, 상기 제 1 내지 제 2 물체광과 상기 참조광을 상기 포토폴리머의 일면에 입사시킨 후 상기 물체광과 상기 참조광의 간섭을 통해 간섭패턴을 생성하는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 홀로그래픽 광소자를 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 물체광은 상기 포토폴리머면에 구비된 렌즈를 통해 상기 제 1 물체광 및 N개의 제 2 물체광이 상기 제 1 초점 및 N개의 제 2 초점의 위치와 매핑하는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 홀로그래픽 광소자를 제작하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는상기 N개의 물체광은 상기 렌즈를 통해 상기 물체광의 입사각과 매핑하는 N개의 초점을 가지는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 홀로그래픽 광소자를 제작하는 방법
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포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치에 있어서,평행광이 통과하고, 입사된 상기 평행광에 영상 정보를 입력하는 투과형 공간 광 변조기(Spatial Light Modulator; SLM);상기 투과형 공간 광 변조기를 통과 후 회절 된 상기 평행광을 필터링 하는 4-f 시스템;일측에서 상기 평행광의 입사면을 가지고 상기 4-f 시스템을 통과한 상기 평행광이 입사 후 내부를 전반사 하는 웨이브 가이드; 및상기 웨이브 가이드의 타측에 구비되어 상기 웨이브 가이드에서 전반사 된 상기 평행광이 입사되어 N개(N은 자연수)의 초점을 형성하는 홀로그래픽 광소자(Holographic Optical Element; HOE);를 포함하고,상기 홀로그래픽 광소자는 포토폴리머의 일면에 대하여 수직한 방향으로 입사하여, 상기 포토폴리머의 일면을 통과한 지점에 위치한 제 1 초점을 통과하도록 하는 제 1 물체광, 상기 제 1 초점과 소정 거리 이격된 N개의 제 2 초점을 각각 통과하도록 하는 N개의 제 2 물체광을 조사하고, 상기 제 1 내지 제 2 물체광과 참조광을 상기 포토폴리머의 일면에 입사시킨 후 상기 물체광과 상기 참조광의 간섭을 통해 간섭패턴이 생성되도록 하여 형성된 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치
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제 5 항에 있어서,상기 입사면은 상기 평행광이 상기 입사면과 수직으로 상기 웨이브 가이드의 내부에서 전반사 되어 HOE에 전달될 수 있도록 각도를 가지는 사선으로 구비되는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치
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포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법에 있어서,(a) 평행광을 투과형 공간 광 변조기에 입사시켜 상기 평행광이 영상정보를 획득하는 단계;(b) 상기 평행광이 웨이브 가이드에 입사 후 홀로그래픽 광소자로 전반사 되는 단계; 및(c) 상기 홀로그래픽 광소자에 의해 상기 평행광이 회절되어 N개의 초점 생성되고, 상기 초점 중 하나가 사용자의 눈에 직접 입사되는 단계;를 포함하고,상기 홀로그래픽 광소자는 포토폴리머의 일면에 대하여 수직한 방향으로 입사하여, 상기 포토폴리머의 일면을 통과한 지점에 위치한 제 1 초점을 통과하도록 하는 제 1 물체광, 상기 제 1 초점과 소정 거리 이격된 N개의 제 2 초점을 각각 통과하도록 하는 N개의 제 2 물체광을 조사하고, 상기 제 1 내지 제 2 물체광과 참조광을 상기 포토폴리머의 일면에 입사시킨 후 상기 물체광과 상기 참조광의 간섭을 통해 간섭패턴이 생성되도록 하여 형성된 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법
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제 7 항에 있어서,상기 (a) 단계 이후상기 공간 광 변조기에 의해 회절 된 상기 평행광은 4-f 시스템으로 입사되어, 회절되는 패턴 중 고차항(high order term) 성분을 필터링 하는 단계를 더 추가하는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법
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제 7 항에 있어서,상기 (b) 단계는상기 평행광이 상기 웨이브 가이드의 입사면에 수직하게 입사하는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법
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제 7 항에 있어서,상기 (c) 단계는상기 홀로그래픽 광소자에 입사한 상기 평행광이 회절되어 상기 홀로그래픽 광소자의 맞은편에 위치한 상기 N개의 초점을 통과하는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법
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제 10 항에 있어서,N 개의 상기 초점을 가지는 복수개의 평행광에서 사용자 동공의 중심점과 위치가 매핑하는 상기 초점을 가지는 평행광이 상기 사용자의 망막에 직접 영상을 입사시키는 것인, 포토폴리머와 웨이브 가이드를 이용한 투과형 헤드 마운트 디스플레이 장치의 동작 방법
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